Počet záznamů: 1

Physical properties of homogeneous TiO.sub.2./sub. films prepared by high power impulse magnetron sputtering as a function of crystallographic phase and nanostructure

  1. 1.
    0334335 - FZU-D 2010 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Straňák, Vítězslav - Čada, Martin - Quaas, M. - Block, S. - Bogdanowicz, R. - Kment, Štěpán - Wulff, H. - Hubička, Zdeněk - Helm, Ch.A. - Tichý, M. - Hippler, R.
    Physical properties of homogeneous TiO2 films prepared by high power impulse magnetron sputtering as a function of crystallographic phase and nanostructure.
    [Fyzikální vlastnosti homogenních TiO2 vrstev připravovaných pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového odprašování v závislosti na krystalografické fázi a nanostruktuře.]
    Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 42, č. 10 (2009), 105204/1-105204/12 ISSN 0022-3727
    Grant CEP: GA AV ČR KAN301370701; GA AV ČR KJB100100805; GA AV ČR KAN400720701
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Klíčová slova: TiO2 * high power magnteron sputtering * plasma diagnostic * film diagnostic
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 2.083, rok: 2009

    Optical, photo-electrochemical, crystallographic and morphological properties of TiO2 thin films prepared by high power impulse magnetron sputtering at low substrate temperatures (<65 ◦C) without post-deposition thermal annealing are studied. The different crystallographic phases were determined with grazing incidence x-ray diffractometry. The surface morphology and size of TiO2 grains/clusters were imaged with atomic force microscopy. Basic plasma parameters were determined by means of the time-resolved Langmuir probe technique. The power density influx on the substrate was estimated from calorimetric probe measurement. The data from calorimetric probe measurements and time-resolved Langmuir probe served as input parameters for the calculation of influx contributions of particular species.

    V článku jsou studovány optické, foto-elektrochemické, krystalografické a morfologické vlastnosti TiO2 tenkých vrstev, připravených pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového naprašování, za nízké teploty substrátu (<65 ◦C) bez dodatečného tepelného žíhání. Pomocí rentgenovské difrakce byly určeny rozdílné krystalografické fáze. Morfologie povrchové struktury ve formě zrn/clusterů byla studována pomocí měření AFM. Základní parametry plazmatu byly určovány pomocí časově rozlišených měření Langmuirovou sondou. Z měření kalorimetrickou sondou byl stanoven celkový výkonový tok na substrát. Data získaná z kalorimetrické a Langmuirovy sondy sloužila jako vstupní parametry pro výpočet energetických příspěvů od jednotlivých částic.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0179099