Počet záznamů: 1

Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode

  1. 1.
    0331189 - FZU-D 2010 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Soukup, R. J. - Ianno, N.J. - Huguenin-Love, J.L. - Lauer, N.T. - Hubička, Zdeněk
    Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode.
    [Depozice SiC tenkých vrstev pomocí pulzního rozprašování duté katody.]
    Journal of Materials Science and Engineering. Roč. 3, č. 8 (2009), s. 1-4 ISSN 1934-8959
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) 1M06002
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Klíčová slova: hollow cathode * pulsed sputtering * 4H SiC
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery

    Thin films of SiC have been deposited using a hollow cathode sputtering methodes. Crystalline SiC thin films were deposited by pulsed hollow cathode plasma excitation.

    Tenké vrstvy SiC byly deponovány systémem s dutou katodou. Krystalické vrstvy SiC byly deponovány při pulzní excitaci plazmatu.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0176779