Effect of nitrogen doping on TiO.sub.x./sub.N.sub.y./sub. thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering

Straňák Vítězslav



Název
Effect of nitrogen doping on TiOxNy thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering
Autor
lupa Straňák Vítězslav FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Spoluautoři
lupa Quaas M.
lupa Bogdanowicz R.
lupa Steffen H.
lupa Wulff H.
lupa Hubička Zdeněk FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Tichý M.
lupa Hippler R.
Zdroj.dok.
lupa Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 43, č. 28 (2010), s. 1-7
Vyd.údaje
7 s.
Poznámky
285203
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
GB
Klíč.slova
magnetron sputtering * TiO2 * pulse discharge * XRD * band gap
URL
http://iopscience.iop.org/0022-3727/43/28/285203/
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
URL
http://iopscience.iop.org/0022-3727/43/28/285203/
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0196679