Ion current to a substrate in the pulsed dc hollow cathode plasma jet deposition system

Virostko Petr



Název
Ion current to a substrate in the pulsed dc hollow cathode plasma jet deposition system
Autor
lupa Virostko Petr FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Spoluautoři
lupa Hubička Zdeněk FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Čada Martin FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Tichý M.
Zdroj.dok.
lupa Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 43, č. 12 (2010), s. 1-7
Vyd.údaje
7 s.
Poznámky
124019
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
GB
Klíč.slova
plasma * pulsed DC * ion flux * hollow cathode
URL
http://stacks.iop.org/JPhysD/43/124019
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
URL
http://stacks.iop.org/JPhysD/43/124019
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0196554