Comparison between chemical and plasmatic treatment of seeding layer for patterned diamond growth

Kromka Alexander



Název
Comparison between chemical and plasmatic treatment of seeding layer for patterned diamond growth
Autor
lupa Kromka Alexander FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Spoluautoři
lupa Babchenko Oleg FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Rezek Bohuslav FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Hruška Karel FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Purkrt A.
lupa Remeš Zdeněk FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Zdroj.dok.
lupa Diamond Electronics and Bioelectronics - Fundamentals to Applications III. S. 137-143. - Warrendale, PA : Materials Research Society, 2010 / Bergonzo P. ; Butler J.E. ; Jackman R.B. ; Loh K.P. ; Nesladek M.
Vyd.údaje
7 s.
Druh dok.
C
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
US
Klíč.slova
diamond * plasma-enhanced CVD (PECVD) (deposition) * microstructure
URL
http://dx.doi.org/10.1557/PROC-1203-J17-53
Databáze
zc - Konferenční příspěvek (zahraniční konference)
URL
http://dx.doi.org/10.1557/PROC-1203-J17-53
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0193993