The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Červenka Jiří



Název
The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Autor
lupa Červenka Jiří FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Spoluautoři
lupa Ledinský Martin FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Stuchlík Jiří FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Stuchlíková The-Ha FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Bakardjieva Snejana UACH-T - Ústav anorganické chemie AV ČR, v. v. i.
lupa Hruška Karel FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Fejfar Antonín FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Kočka Jan FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Zdroj.dok.
lupa Nanotechnology. Roč. 21, č. 41 (2010), 415604/1-415604/7
Vyd.údaje
7 s.
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
GB
Klíč.slova
nanoneedles * nanowires * silicon * plasma * chemical vapor deposition * crystal structure * growth * phonon * SEM * Raman
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0192169