Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography

Urbánek Michal



Název
Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography
Autor
lupa Urbánek Michal UPT-D - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Spoluautoři
lupa Kolařík Vladimír UPT-D - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
lupa Král Stanislav UPT-D - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
lupa Dvořáková Marie UPT-D - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Zdroj.dok.
lupa Proceedings of the 12th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. S. 67-68. - Brno : Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i, 2010 / Mika F.
Vyd.údaje
2 s.
Druh dok.
C
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
CZ
Klíč.slova
electron beam lithography * proximity effect
Databáze
zc - Konferenční příspěvek (zahraniční konference)
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0190611