Enhancement of YBCO thin film thermal stability under 1 ATM oxygen pressure by Intermediate Cu.sub.2./sub. O nanolayer

Cheng L



Název
Enhancement of YBCO thin film thermal stability under 1 ATM oxygen pressure by Intermediate Cu2 O nanolayer
Autor
lupa Cheng L.
Spoluautoři
lupa Wang X.
lupa Yao X.
lupa Wan W.
lupa Li F.H.
lupa Xiong J.
lupa Tao B.W.
lupa Jirsa Miloš FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Zdroj.dok.
lupa Journal of Physical Chemistry B. Roč. 114, č. 22 (2010), s. 7543-7547. - : AMER CHEMICAL SOC
Vyd.údaje
5 s.
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
US
Klíč.slova
YBCO thin films * thermal stability * thin film growth orientation * temperature optical microscopy
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0006036