High hydrogen dilution and low substrate temperature cause columnar growth of hydrogenated amorphous silicon

Bronsveld P.C.P



Název
High hydrogen dilution and low substrate temperature cause columnar growth of hydrogenated amorphous silicon
Autor
lupa Bronsveld P.C.P.
Spoluautoři
lupa Mates Tomáš FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Fejfar Antonín FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Kočka Jan FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Rath J.K.
lupa Schropp R.E.I.
Zdroj.dok.
lupa Physica Status Solidi. A, Applications and Materials Science. Roč. 207, č. 3 (2010), s. 525-529
Vyd.údaje
5 s.
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
DE
Klíč.slova
hydrogenated amorphous silicon * columnar growth * cross-sectional transmission electron microscope (X-TEM]
URL
http://dx.doi.org/10.1002/pssa.200982847
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
URL
http://dx.doi.org/10.1002/pssa.200982847
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0188523