Double hollow cathode plasma jet-low temperature method for the TiO.sub.2-x./sub.N.sub.x./sub. photoresponding films

Kment Štěpán



Název
Double hollow cathode plasma jet-low temperature method for the TiO2-xNx photoresponding films
Autor
lupa Kment Štěpán FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Spoluautoři
lupa Klusoň Petr UCHP-M - Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i.
lupa Hubička Zdeněk FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Krýsa J.
lupa Čada Martin FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Gregora Ivan FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Deyneka Alexander FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Remeš Zdeněk FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Žabová Hana UCHP-M - Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i.
lupa Jastrabík Lubomír FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Zdroj.dok.
lupa Electrochimica acta. Roč. 55, č. 5 (2010), s. 1548-1556. - : Elsevier
Vyd.údaje
9 s.
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
GB
Klíč.slova
TiO * plasma jets
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0187508