Optical emission and mass spectroscopy of plasma processes in reactive DC pulsed magnetron sputtering of aluminium oxide

Novotný Michal



Název
Optical emission and mass spectroscopy of plasma processes in reactive DC pulsed magnetron sputtering of aluminium oxide
Autor
lupa Novotný Michal FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Spoluautoři
lupa Bulíř Jiří FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Pokorný Petr FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Bočan Jiří FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Fitl Přemysl FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Lančok Ján FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Musil Jindřich FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Zdroj.dok.
lupa Journal of Optoelectronics and Advanced Materials. Roč. 12, č. 3 (2010), 697-700. - : NATL INST OPTOELECTRONICS
Vyd.údaje
4 s.
Poznámky
DOI nezjištěno
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
RO
Klíč.slova
reactive magnetron sputtering * alumina * plasma spectroscopy * mass spectroscopy * optical emission spectroscopy
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0005901