Conjugated Silicon–Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Meditated Degradation Processes in Polysilanes

Schauer F



Název
Conjugated Silicon–Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Meditated Degradation Processes in Polysilanes
Autor
lupa Schauer F.
Spoluautoři
lupa Schauer Petr UPT-D - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
lupa Kuřitka I.
lupa Hua B.
Zdroj.dok.
lupa Materials Transactions. Roč. 51, č. 2 (2010), s. 197-201
Vyd.údaje
5 s.
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
JP
Klíč.slova
ultra violet degradability * polysilylenes * weak bond * conformation defect * nanorezists
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0184761