Ultrasharp Si nanowires produced by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Červenka Jiří



Název
Ultrasharp Si nanowires produced by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Autor
lupa Červenka Jiří FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Spoluautoři
lupa Ledinský Martin FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Stuchlíková The-Ha FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Stuchlík Jiří FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Výborný Zdeněk FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Holovský Jakub FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Hruška Karel FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Fejfar Antonín FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Kočka Jan FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Zdroj.dok.
lupa Physica Status Solidi-Rapid Research Letters. Roč. 4, 1-2 (2010), s. 37-39
Vyd.údaje
3 s.
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
DE
Klíč.slova
nanowires * silicon * scanning electron microscopy * hemical vapor deposition * Raman spectroscopy
URL
http://www3.interscience.wiley.com/cgi-bin/fulltext/123213957/HTMLSTART
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
URL
http://www3.interscience.wiley.com/cgi-bin/fulltext/123213957/HTMLSTART
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0184509