LiF enhanced nucleation of the low temperature microcrystalline silicon prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition

Stuchlík Jiří



Název
LiF enhanced nucleation of the low temperature microcrystalline silicon prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition
Autor
lupa Stuchlík Jiří FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Spoluautoři
lupa Ledinský Martin FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Honda Shinya FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Drbohlav Ivo FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Mates Tomáš FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Fejfar Antonín FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Hruška Karel FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Stuchlíková The-Ha FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Kočka Jan FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Zdroj.dok.
lupa Thin Solid Films. Roč. 517, č. 24 (2009), s. 6829-6832. - : Elsevier
Vyd.údaje
4 s.
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
CH
Klíč.slova
amorphous hydrogenated silicon * atomic force microscopy * plasma-enhanced chemical vapour deposition, * nucleation * Raman scattering * lithium fluoride
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0180823