Conjugated Silicon – Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Mediated Degradation Processes in Polysilanes

Schauer F



Název
Conjugated Silicon – Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Mediated Degradation Processes in Polysilanes
Autor
lupa Schauer F.
Spoluautoři
lupa Schauer Petr UPT-D - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
lupa Kuřitka I.
lupa Hua B.
Zdroj.dok.
lupa Proceedings of the 4th Czech-Japan-China Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology (CJCS’09). S. 28. - Brno : ISI AS CR, 2009 / Pokorná Zuzana ; Mika Filip
Vyd.údaje
1 s.
Druh dok.
C
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
CZ
Klíč.slova
photoluminescence * cathodoluminescence * silicon-based polymer resist
Databáze
zc - Konferenční příspěvek (zahraniční konference)
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0179805