Influence of process parameters on the properties of TEOS DF-PECVD grown SiO2 films by DOE

Mikmeková Eliška



Název
Influence of process parameters on the properties of TEOS DF-PECVD grown SiO2 films by DOE
Autor
lupa Mikmeková Eliška UPT-D - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Spoluautoři
lupa Janča J.
lupa Dvořáková M.
Zdroj.dok.
lupa MC 2009 - Microscopy Conference: First Joint Meeting of Dreiländertagung and Multinational Conference on Microscopy. Vol. 3: 463-464. - Graz : Verlag der Technischen Universität, 2009
Vyd.údaje
2 s.
Druh dok.
C
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
AT
Klíč.slova
DF-PECVD * silicon dioxide * intrinsic stress * DOE * SEM
URL
http://www.univie.ac.at/asem/Graz_MC_09/papers/65557.pdf
Databáze
zc - Konferenční příspěvek (zahraniční konference)
URL
http://www.univie.ac.at/asem/Graz_MC_09/papers/65557.pdf http://www.univie.ac.at/asem/Graz_MC_09/papers/65557.pdf
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0179780