Comparative study of total power density at a substrate in pulsed DC magnetron and hollow-cathode plasma jet sputtering systems

Čada Martin



Název
Comparative study of total power density at a substrate in pulsed DC magnetron and hollow-cathode plasma jet sputtering systems
Překlad názvu
Porovnávací studie celkové výkonové hustoty na substrát v pulzním DC magnetronovém výboji a v plazma-jetu s dutou katodou
Autor
lupa Čada Martin FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Spoluautoři
lupa Virostko Petr FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Kment Štěpán FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
lupa Hubička Zdeněk FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Zdroj.dok.
lupa Plasma Processes and Polymers. Roč. 6, S1 (2009), S247-S252. - : WILEY-BLACKWELL
Vyd.údaje
6 s.
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
DE
Klíč.slova
calorimeter probe * floating substrate * magnetron * plasma jet * pulsed discharge
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0179607