Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode

Soukup R. J



Název
Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode
Překlad názvu
Depozice SiC tenkých vrstev pomocí pulzního rozprašování duté katody
Autor
lupa Soukup R. J.
Spoluautoři
lupa Ianno N.J.
lupa Huguenin-Love J.L.
lupa Lauer N.T.
lupa Hubička Zdeněk FZU-D - Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Zdroj.dok.
lupa Journal of Materials Science and Engineering. Roč. 3, č. 8 (2009), s. 1-4
Vyd.údaje
4 s.
Druh dok.
J
Jazyk dok.
eng
Země vyd.
US
Klíč.slova
hollow cathode * pulsed sputtering * 4H SiC
Databáze
zj - Článek v odborném časopise
Trvalý link
http://hdl.handle.net/11104/0176779