Výsledky vyhledávání

  1. 1. 0500946 - FZU-D 2019 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Klinger, Miloslav
    Zařízení pro pulzní plazmatické povlakování vnitřních povrchů dutých dielektrických trubic.
    [A device for pulsed plasma coating of internal surfaces of hollow dielectric tubes.]
    2018. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v .v. i. Datum udělení vzoru: 25.07.2018. Číslo vzoru: 31918
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG02010056
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow cathode * plasma * thin films * RF plasma * discharge
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://isdv.upv.cz/webapp/resdb.print_detail.det?pspis=PUV/34923&plang=CS
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292982
     

  2. 2. 0499948 - FZU-D 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
    Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
    [Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
    Interní kód: FVG1/FZU/2018 ; 2018
    Technické parametry: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
    Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    Grant CEP: GA MPO FV10312
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292132
     

  3. 3. 0494044 - FZU-D 2019 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
    Vysokorychlostní depozice homogenních oxidových vrstev prostřednictvím vícetryskového systému žhavených dutých katod.
    [High rate deposition of homogeneous oxide films by multi-nozzle system of hot hollow cathodes.]
    Interní kód: TF01000084-2018V003 ; 2018
    Technické parametry: Ohledně výsledku byla dne 28.2.2018 uzavřena licenční smlouva mezi Fyzikálním ústavem a společností IQ Structures, s.r.o. (IČ: 24279501)
    Ekonomické parametry: Ve srovnání s reaktivním DC magnetronovým naprašováním umožňuje tato technologie několikanásobné zvýšení depoziční rychlosti oxidových vrstev. Tento nárůst může v závislosti na naprašovaném materiálu dosáhnout až desetinásobku při současném zachování energetické náročnosti depozičního procesu. Technologie byla testována v průmyslové aparatuře společnosti Emerson & Renwick na vrstvách oxidu titaničitého (TiO2) a oproti DC-MS bylo dosaženo trojnásobné depoziční rychlosti.
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow cathode * plazma nozzle * deposition * thin films
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0287285
     

  4. 4. 0489658 - FZU-D 2019 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Zanáška, M. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kudrna, Pavel - Tichý, M.
    Floating harmonic probe measurements in the low-temperature plasma jet deposition system.
    Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 51, č. 2 (2018), s. 1-8, č. článku 025205. ISSN 0022-3727
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA15-00863S
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: plasma diagnostic * floating harmonic probe * Langmuir probe * hollow cathode * non-conducting film deposition
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 2.373, rok: 2017
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0284030
     

  5. 5. 0485925 - FZU-D 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kšírová, Petra - Klinger, Miloslav
    Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent.
    [Plasmatic system for coatings of hollow substrates.]
    Interní kód: FVG1/FZU/2017 ; 2017
    Technické parametry: Generace plazmatu: dutá katoda, druh výboje: RF/DC/DC-pulzní, výkon v plazmatu: max 150 W, průtok argonu: 50-250 sccm, pracovní tlak: 1-20 Pa. Délka povlakované trubky: max 200 mm.
    Ekonomické parametry: Plazmová depoziční aparatura byla vyvinuta v rámci projektu GAMA TAČR a bude nabídnuta průmyslovým partnerům jako technologie pro povlakování strojních komponent.
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG02010056
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0280842
     

  6. 6. 0481686 - FZU-D 2018 RIV cze P - Patentový dokument
    Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Adámek, Petr - Čada, Martin - Kment, Štěpán
    Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu.
    [A method of controlling the rate of deposition of thin layers in a vacuum multi-nozzle plasma system and a device for implementing this method.]
    2017. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 13.09.2017. Číslo patentu: 306980
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow cathode * plasma nozzle * deposition * thin films
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241583&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277207
     

  7. 7. 0466215 - FZU-D 2017 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Adámek, Petr - Čada, Martin - Kment, Štěpán
    Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému.
    [Device to control deposition of thin layers in vacuum multijet plasma system.]
    2016. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 15.11.2016. Číslo vzoru: 30018
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: plasma jet * thin films * hollow cathode * sputtering
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241582&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0264578
     

  8. 8. 0437315 - FZU-D 2015 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
    Klusoň, J. - Kudrna, P. - Kolpaková, A. - Picková, I. - Hubička, Zdeněk - Tichý, M.
    Experimental study of the discharge in the low pressure plasma jet sputtering system.
    Contributions to Plasma Physics. Roč. 53, č. 1 (2013), s. 10-15. ISSN 0863-1042
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow cathode * plasma jet sputtering system * Langmuir probe
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 0.983, rok: 2013
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0240876
     

  9. 9. 0423298 - FZU-D 2014 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Hubička, Zdeněk - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Kubart, T. - Brunclíková, Michaela - Kšírová, Petra - Adámek, Petr - Remeš, Zdeněk
    Deposition of hematite Fe2O3 thin film by DC pulsed magnetron and DC pulsed hollow cathode sputtering system.
    Thin Solid Films. Roč. 549, Dec (2013), s. 184-191. ISSN 0040-6090
    Grant CEP: GA ČR GAP108/12/2104; GA MŠk LH12043
    Grant ostatní:AVČR(CZ) M100101215
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: HIPIMS * thin films * hollow cathode
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Impakt faktor: 1.867, rok: 2013
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0229416
     

  10. 10. 0371285 - FZU-D 2012 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Straňák, Vítězslav - Šmíd, Jiří - Jastrabík, Lubomír - Kment, Štěpán - Dejneka, Alexandr
    Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely.
    [Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes.]
    Interní kód: FS1/FZÚ/2011 ; 2011
    Technické parametry: Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A
    Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Klíčová slova: sputtering * optical thin films * plasma * deposition * magnetron * hollow cathode
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0204834