Výsledky vyhledávání

  1. 1. 0489658 - FZU-D 2019 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Zanáška, M. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kudrna, Pavel - Tichý, M.
    Floating harmonic probe measurements in the low-temperature plasma jet deposition system.
    Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 51, č. 2 (2018), s. 1-8, č. článku 025205. ISSN 0022-3727
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA15-00863S
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: plasma diagnostic * floating harmonic probe * Langmuir probe * hollow cathode * non-conducting film deposition
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 2.588, rok: 2016
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0284030
     

  2. 2. 0485925 - FZU-D 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kšírová, Petra - Klinger, Miloslav
    Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent.
    [Plasmatic system for coatings of hollow substrates.]
    Interní kód: FVG1/FZU/2017 ; 2017
    Technické parametry: Generace plazmatu: dutá katoda, druh výboje: RF/DC/DC-pulzní, výkon v plazmatu: max 150 W, průtok argonu: 50-250 sccm, pracovní tlak: 1-20 Pa. Délka povlakované trubky: max 200 mm.
    Ekonomické parametry: Plazmová depoziční aparatura byla vyvinuta v rámci projektu GAMA TAČR a bude nabídnuta průmyslovým partnerům jako technologie pro povlakování strojních komponent.
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG02010056
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0280842
     

  3. 3. 0481686 - FZU-D 2018 RIV cze P - Patentový dokument
    Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Adámek, Petr - Čada, Martin - Kment, Štěpán
    Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu.
    [A method of controlling the rate of deposition of thin layers in a vacuum multi-nozzle plasma system and a device for implementing this method.]
    2017. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 13.09.2017. Číslo patentu: 306980
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow cathode * plasma nozzle * deposition * thin films
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241583&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277207
     

  4. 4. 0466215 - FZU-D 2017 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Adámek, Petr - Čada, Martin - Kment, Štěpán
    Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému.
    [Device to control deposition of thin layers in vacuum multijet plasma system.]
    2016. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 15.11.2016. Číslo vzoru: 30018
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: plasma jet * thin films * hollow cathode * sputtering
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241582&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0264578
     

  5. 5. 0437315 - FZU-D 2015 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
    Klusoň, J. - Kudrna, P. - Kolpaková, A. - Picková, I. - Hubička, Zdeněk - Tichý, M.
    Experimental study of the discharge in the low pressure plasma jet sputtering system.
    Contributions to Plasma Physics. Roč. 53, č. 1 (2013), s. 10-15 ISSN 0863-1042
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow cathode * plasma jet sputtering system * Langmuir probe
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 0.983, rok: 2013
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0240876
     

  6. 6. 0423298 - FZU-D 2014 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Hubička, Zdeněk - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Kubart, T. - Brunclíková, Michaela - Kšírová, Petra - Adámek, Petr - Remeš, Zdeněk
    Deposition of hematite Fe2O3 thin film by DC pulsed magnetron and DC pulsed hollow cathode sputtering system.
    Thin Solid Films. Roč. 549, Dec (2013), s. 184-191 ISSN 0040-6090
    Grant CEP: GA ČR GAP108/12/2104; GA MŠk LH12043
    Grant ostatní:AVČR(CZ) M100101215
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: HIPIMS * thin films * hollow cathode
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Impakt faktor: 1.867, rok: 2013
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0229416
     

  7. 7. 0371285 - FZU-D 2012 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Straňák, Vítězslav - Šmíd, Jiří - Jastrabík, Lubomír - Kment, Štěpán - Dejneka, Alexandr
    Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely.
    [Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes.]
    Interní kód: FS1/FZÚ/2011 ; 2011
    Technické parametry: Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A
    Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Klíčová slova: sputtering * optical thin films * plasma * deposition * magnetron * hollow cathode
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0204834
     

  8. 8. 0359580 - FZU-D 2012 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Kment, Štěpán - Hubička, Zdeněk - Kmentová, Hana - Klusoň, Petr - Krýsa, Josef - Gregora, Ivan - Morozová, Magdalena - Čada, Martin - Petráš, D. - Dytrych, Pavel - Slater, M. - Jastrabík, Lubomír
    Photoelectrochemical properties of hierarchical nanocomposite structure: Carbon nanofibers/TiO2/ZnO thin films.
    Catalysis Today. Roč. 161, č. 1 (2011), s. 8-14 ISSN 0920-5861
    Grant CEP: GA AV ČR KAN301370701; GA MŠk(CZ) 1M06002; GA AV ČR KAN400720701
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522; CEZ:AV0Z40720504
    Klíčová slova: thin layers * hollow cathode * TiO2 * ZnO * CNFs * IPCE * photocatalysis
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 3.407, rok: 2011
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0197341
     

  9. 9. 0358552 - FZU-D 2012 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Virostko, Petr - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tichý, M.
    Ion current to a substrate in the pulsed dc hollow cathode plasma jet deposition system.
    Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 43, č. 12 (2010), s. 1-7 ISSN 0022-3727
    Grant CEP: GA AV ČR KAN301370701; GA ČR GP202/09/P159; GA ČR GA202/09/0800
    Grant ostatní:AVČR(CZ) M100100915
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Klíčová slova: plasma * pulsed DC * ion flux * hollow cathode
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Impakt faktor: 2.105, rok: 2010
    http://stacks.iop.org/JPhysD/43/124019
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0196554
     

  10. 10. 0357978 - FZU-D 2011 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
    Leshkov, S. - Kudrna, P. - Chichina, M. - Klusoň, J. - Picková, I. - Virostko, P. - Hubička, Zdeněk - Tichý, M.
    Spatial distribution of plasma parameters in DC-energized hollow cathode plasma jet.
    Contributions to Plasma Physics. Roč. 50, č. 9 (2010), s. 878-885 ISSN 0863-1042
    Grant CEP: GA ČR GA202/09/0800
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Klíčová slova: hollow cathode * plasma jet * Langmuir probe
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Impakt faktor: 1.006, rok: 2010
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0196135