Search results

  1. 1.
    0555694 - ÚFP 2022 RIV GB eng J - Journal Article
    Das, Nirmal Kumar - Kanclíř, Vít - Mokrý, Pavel - Žídek, Karel
    Bulk and interface second harmonic generation in the Si3N4 thin films deposited via ion beam sputtering.
    Journal of Optics. Roč. 23, č. 2 (2021), č. článku 024003. ISSN 2040-8978. E-ISSN 2040-8986
    R&D Projects: GA MŠk(CZ) EF16_026/0008390; GA ČR(CZ) GA19-22000S
    Grant - others: AV ČR(CZ) ERC100431901
    Program: ERC-CZ/AV
    Institutional support: RVO:61389021
    Keywords : silicon nitride * thin films * ellipsometry * second harmonic generation (SHG) * bulk * interface
    OECD category: Coating and films
    Impact factor: 2.077, year: 2021
    Method of publishing: Limited access
    https://iopscience.iop.org/article/10.1088/2040-8986/abe450
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0330158
     
     
  2. 2.
    0550697 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Sháněl, O. - Schneider, M. - Materna-Mikmeková, Eliška - Řiháček, Tomáš - Podstránský, Jáchym - Radlička, Tomáš
    Si3Nx fázová destička.
    [Si3Nx phase plates.]
    Internal code: APL-2021-05 ; 2021
    Technical parameters: Křemíkový čip nesoucí tenkou nitridovou membránu. Rozměr (Okénko v křemíkovém čipu) membrány je čtvercového tvaru o rozměru 100×100 µm. Tloušťka membrány je optimalizovaná tak, aby v posouvala fázi procházejícího svazku o pi/2. Čip je upevněný na platinové clonce o průměru 3 mm a ve středu clonky je malý otvor o rozměrech v jednotkách µm, který byl vytvořen pomoci FIB/SEM, tak aby odpovídal velikosti nultého řádu difrakce v zadní objektivové rovině.
    Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Mgr. Tomáš Radlička, Ph.D., radlicka@isibrno.cz.
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : transmission electron microscopy * phase plate * silicon nitride * thin layers
    OECD category: Electrical and electronic engineering
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0326001
     
     
  3. 3.
    0545328 - FZÚ 2022 RIV DE eng J - Journal Article
    Tkachenko, V. - Lipp, V. - Buescher, M. - Capotondi, F. - Hoeppner, H. - Medvedev, Nikita - Pedersoli, E. - Prandolini, M.J. - Rossi, G.M. - Tavella, F. - Toleikis, S. - Windeler, M. - Ziaja, B. - Teubner, U.
    Effect of Auger recombination on transient optical properties in XUV and soft X-ray irradiated silicon nitride.
    Scientific Reports. Roč. 11, č. 1 (2021), č. článku 5203. ISSN 2045-2322. E-ISSN 2045-2322
    R&D Projects: GA MŠk LTT17015
    EU Projects: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : temporal diagnostics of FEL pulses * optical properties of silicon nitride irradiated by XUV and soft X-ray
    OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impact factor: 4.996, year: 2021
    Method of publishing: Open access
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0322052
    FileDownloadSizeCommentaryVersionAccess
    0545328.pdf22.4 MBCC LicencePublisher’s postprintopen-access
     
     
  4. 4.
    0542944 - ÚFM 2022 RIV GB eng J - Journal Article
    Tatarková, M. - Tatarko, P. - Kovalčíková, A. - Dlouhý, Ivo - Dusza, J. - Šajgalík, P.
    Influence of hexagonal boron nitride nanosheets on phase transformation, microstructure evolution and mechanical properties of Si3N4 ceramics.
    Journal of the European Ceramic Society. Roč. 41, č. 10 (2021), s. 5115-5126. ISSN 0955-2219. E-ISSN 1873-619X
    Grant - others: AV ČR(CZ) SAV-18-12; AV ČR(CZ) SAV-21-04
    Program: Bilaterální spolupráce; Bilaterální spolupráce
    Institutional support: RVO:68081723
    Keywords : fracture-toughness * fabrication * composites * nanocomposites * nanotubes * behavior * Silicon nitride * Boron nitride nanosheets * Microstructure * Toughening * Mechanical properties
    OECD category: Ceramics
    Impact factor: 6.364, year: 2021
    Method of publishing: Limited access
    https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0955221921000972?via%3Dihub
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0320318
     
     
  5. 5.
    0536670 - ÚPT 2021 RIV CZ cze O - Others
    Krátký, Stanislav - Materna-Mikmeková, Eliška - Fořt, Tomáš - Radlička, Tomáš - Sháněl, O.
    Vývoj a testování fázových destiček.
    [Development and testing of phase plates.]
    2020
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : transmission electron microscope * phase plates * silicon nitride * charging * EELS
    OECD category: Electrical and electronic engineering
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314406
     
     
  6. 6.
    0536583 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Krátký, Stanislav - Fořt, Tomáš - Matějka, Milan - Materna-Mikmeková, Eliška - Radlička, Tomáš - Řiháček, Tomáš - Sháněl, O. - Schneider, M. - Mareček, D.
    Fázová destička pro použití v transmisní elektronové mikroskopii.
    [Phase plate for transmission electron microscopy.]
    Internal code: APL-2020-07 ; 2020
    Technical parameters: Křemíkový čip (tloušťka 200 µm) nesoucí tenkou nitridovou membránu (tloušťka ⁓70 nm). Otvor membrány je čtvercového tvaru o rozměru 100×100 µm. Čip je upevněný na platinové clonce o průměru 3 mm. Celý vzorek je pokoven tenkou vrstvou molybdenu (⁓3 nm).
    Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : transmission electron microscopy * phase plate * silicon nitride * thin layers * e-beam lithography
    OECD category: Electrical and electronic engineering
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314347
     
     
  7. 7.
    0533408 - FZÚ 2021 RIV NL eng J - Journal Article
    Romanova, M. - Avotina, L. - Andrulevicius, M. - Dekhtyar, Y. - Enichek, G. - Kizane, G. - Novotný, Michal - Pajuste, E. - Pokorný, Petr - Yager, T. - Zaslavski, A.
    Radiation resistance of nanolayered silicon nitride capacitors.
    Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. Roč. 471, May (2020), s. 17-23. ISSN 0168-583X. E-ISSN 1872-9584
    Grant - others: AV ČR(CZ) LZA-16-01
    Program: Bilaterální spolupráce
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : silicon nitride * capacitor * capacitance * breakdown voltage * gamma radiation * nanocapacitor
    OECD category: Coating and films
    Impact factor: 1.377, year: 2020
    Method of publishing: Limited access
    https://doi.org/10.1016/j.nimb.2020.03.010
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0311797
     
     
  8. 8.
    0525191 - ÚPT 2021 RIV SK eng J - Journal Article
    Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Řiháček, Tomáš - Knápek, Alexandr - Kolařík, Vladimír
    Functional nano-structuring of thin silicon nitride membranes.
    Journal of Electrical Engineering - Elektrotechnický časopis. Roč. 71, č. 2 (2020), s. 127-130. ISSN 1335-3632. E-ISSN 1339-309X
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008; GA MŠk ED0017/01/01
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : membrane * nano optical device * electron optics * electron beam lithography * silicon nitride * reactive ion etching * silicon etching * microfabrication
    OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Impact factor: 0.647, year: 2020
    Method of publishing: Open access
    https://content.sciendo.com/view/journals/jee/71/2/article-p127.xml
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0309382
     
     
  9. 9.
    0512151 - ÚPT 2020 JO eng A - Abstract
    Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Krátký, Stanislav - Řiháček, Tomáš - Knápek, Alexandr - Kolařík, Vladimír
    Fabrication of functional nanostructures in thin silicon nitride membranes.
    Fourth International Symposium on Dielectric Materials and Applications (ISyDMA 4). Book of Abstracts. Amman: Jordan University of Science & Technology, 2019.
    [The Fourth International Symposium on Dielectric Materials and Applications (ISyDMA 4). 02.05.2019-04.05.2019, Amman]
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : thin dielectric layers * silicon nitride * membranes * electron beam lithography
    Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0302363
     
     
  10. 10.
    0508319 - FZÚ 2020 RIV DE eng J - Journal Article
    Ryabchikov, Yury V. - Lukianov, A. - Oliinyk, B. - Nychyporouk, T. - Lysenko, V.
    Development of silicon nitride-based nanocomposites with multicolour photoluminescence.
    Applied Physics A - Materials Science & Processing. Roč. 125, č. 9 (2019), s. 1-7, č. článku 630. ISSN 0947-8396. E-ISSN 1432-0630
    R&D Projects: GA MŠk EF15_003/0000445; GA MŠk LO1602
    Grant - others: OP VVV - BIATRI(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/15_003/0000445
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : silicon-rich nitride * photoluminiscence * nanocomposites * silicon nitride films * nanothermometry
    OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Impact factor: 1.810, year: 2019
    Method of publishing: Limited access
    https://doi.org/10.1007/s00339-019-2915-z
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0299262