Search results
- 1.0570569 - ÚPT 2023 RIV CZ cze J - Journal Article
Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír - Pavlačík, P. - Škoda, D. - Brunn, Ondřej - Sadílek, Jakub
Difraktivní optický element pro realizaci svítícího bodu v záměrném kříži pro puškohledovou optiku.
[Diffractive optical element for creating a illuminated point in a reticle for rifle scopes.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 68, č. 4 (2023), s. 87-90. ISSN 0447-6441
R&D Projects: GA MPO(CZ) FV40197
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : diffractive optical elements * electron beam lithography * reactive ion etching * sports optics
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Method of publishing: Limited access
https://jmo.fzu.cz/sites/jmo.fzu.cz/files/oldweb/2023/2023-04/jmo_23_04_obsah.pdf
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0341873 - 2.0566648 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Mikel, Břetislav - Fořt, Tomáš - Helán, R. - Urban, F.
Nelineární fázová maska pro výrobu vláknových filtrů s definovanou strmostí spektrální charakteristiky.
[Apodized phase mask for the manufacture of fiber Bragg grating filter with defined transmission spectrum.]
Internal code: APL-2022-30 ; 2022
Technical parameters: Fázová difrakční maska s rozlišením periody 0,1 nm připravená v materiálu fused silica naladěná pro expozici světlem s vlnovou délkou 248 nm a přípravu nelineárního vláknového filtru.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz.
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : apodized phase mask * diffraction grating * electron-beam lithography
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0337962 - 3.0549311 - ÚPT 2022 RIV CH eng J - Journal Article
Šimonová, L. - Matějka, Milan - Knápek, Alexandr - Králík, Tomáš - Pokorná, Zuzana - Mika, Filip - Fořt, Tomáš - Man, O. - Škarvada, P. - Otáhal, A. - Čudek, P.
Nanostructures for achieving selective properties of a thermophotovoltaic emitter.
Nanomaterials. Roč. 11, č. 9 (2021), č. článku 2443. E-ISSN 2079-4991
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : thermophotovoltaics * selective emitters * nanostructures * reactive ion etching * emissivity * electron beam lithography
OECD category: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impact factor: 5.719, year: 2021
Method of publishing: Open access
https://www.mdpi.com/2079-4991/11/9/2443
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0325334 - 4.0544775 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Kopal, Jaroslav - Brunn, Ondřej - Fordey, T. - Schovánek, P.
Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky.
[Special photomask for wavefront measurement of projection optics.]
Internal code: APL-2021-04 ; 2021
Technical parameters: Rozměry vzorku: disk o průměru 20 mm tloušťky 0,6 mm. Mezní rozlišení vzorku: 511,36 nm.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : electron beam lithography * photomask
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0321586 - 5.0544061 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Matějka, Milan - Burda, Daniel - Ondříšková, Martina - Lalinský, Ondřej - Horodyský, P.
Litografická maska.
[Lithographic mask.]
Internal code: APL-2021-03 ; 2021
Technical parameters: Základními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : electron beam lithography * photomask
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0321117 - 6.0543745 - ÚPT 2022 RIV CZ eng C - Conference Paper (international conference)
Chlumská, Jana - Lalinský, Ondřej - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír
Patterning of conductive nano-layers on garnet.
NANOCON 2020. 12th International Conference on Nanomaterials - Research & Application. Conference proceedings. Ostrava: TANGER, 2021, (2021), s. 221-224. ISBN 978-80-87294-98-7. ISSN 2694-930X.
[International Conference NANOCON 2020 /12./. Brno (CZ), 21.10.2020-23.10.2020]
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : Electron beam lithography * nano-patterning * yttrium aluminium garnet
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
https://www.confer.cz/nanocon/2020/3731-patterning-of-conductive-nano-layer-on-garnet
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0320902 - 7.0535207 - ÚPT 2021 RIV CZ cze J - Journal Article
Knápek, Alexandr - Horáček, Miroslav - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Brunn, Ondřej - Burda, Daniel - Kolařík, Vladimír
Vlastnosti kvaziperiodických spirálových mikrostruktur.
[Properties of quasiperiodic spiral microstrictures.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 65, č. 6 (2020), s. 175-178. ISSN 0447-6441
R&D Projects: GA MV(CZ) VI20192022147
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : planar phyllotactit model * electron beam lithography * diffractive optically variable image device
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Method of publishing: Limited access
https://jmo.fzu.cz/sites/jmo.fzu.cz/files/oldweb/2020/2020-06/jmo_20_06_obsah.pdf
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0313290 - 8.0525191 - ÚPT 2021 RIV SK eng J - Journal Article
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Řiháček, Tomáš - Knápek, Alexandr - Kolařík, Vladimír
Functional nano-structuring of thin silicon nitride membranes.
Journal of Electrical Engineering - Elektrotechnický časopis. Roč. 71, č. 2 (2020), s. 127-130. ISSN 1335-3632. E-ISSN 1339-309X
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008; GA MŠMT ED0017/01/01
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : membrane * nano optical device * electron optics * electron beam lithography * silicon nitride * reactive ion etching * silicon etching * microfabrication
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Impact factor: 0.647, year: 2020
Method of publishing: Open access
https://content.sciendo.com/view/journals/jee/71/2/article-p127.xml
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0309382 - 9.0512151 - ÚPT 2020 JO eng A - Abstract
Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Krátký, Stanislav - Řiháček, Tomáš - Knápek, Alexandr - Kolařík, Vladimír
Fabrication of functional nanostructures in thin silicon nitride membranes.
Fourth International Symposium on Dielectric Materials and Applications (ISyDMA 4). Book of Abstracts. Amman: Jordan University of Science & Technology, 2019.
[The Fourth International Symposium on Dielectric Materials and Applications (ISyDMA 4). 02.05.2019-04.05.2019, Amman]
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : thin dielectric layers * silicon nitride * membranes * electron beam lithography
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0302363 - 10.0501458 - ÚPT 2020 RIV SK eng J - Journal Article
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Knápek, Alexandr - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Meluzín, Petr
Spiral arrangement: From nanostructures to packaging.
Journal of Electrical Engineering - Elektrotechnický časopis. Roč. 70, č. 1 (2019), s. 74-77. ISSN 1335-3632. E-ISSN 1339-309X
R&D Projects: GA MPO FV10618; GA TA ČR TG03010046; GA TA ČR TE01020233; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : electron beam lithography * phyllotaxis * spiral arrangement * parastichy
OECD category: Electrical and electronic engineering
Impact factor: 0.686, year: 2019
Method of publishing: Open access
https://content.sciendo.com/view/journals/jee/70/1/article-p74.xml?lang=en
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0293484