Search results
- 1.0552189 - FZÚ 2022 RIV US eng J - Journal Article
Tvarog, Drahoslav - Olejníček, Jiří - Kratochvíl, Jiří - Kšírová, Petra - Poruba, A. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
Characterization of radical-enhanced atomic layer deposition process based on microwave surface wave generated plasma.
Journal of Applied Physics. Roč. 130, č. 1 (2021), č. článku 013301. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
R&D Projects: GA MŠMT LM2018110; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA TA ČR(CZ) TM01000039; GA TA ČR TF03000025
Grant - others:OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : microwave surfatron * low-temperature plasma * ALD * TiO2 * plasma diagnostics
OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impact factor: 2.877, year: 2021
Method of publishing: Limited access
https://doi.org/10.1063/5.0046829
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0327391 - 2.0552141 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
ECWR plazma zdroj.
[ECWR plasma source.]
Internal code: FVMF3/FZU/2021 ; 2021
Technical parameters: Vnější průměr vstupní části ECWR zdroje: 6 mm Vnitřní průměr vstupní části ECWR zdroje: 4 mm Vnější průměr pracovní části ECWR zdroje: 25 mm Vnitřní průměr pracovní části ECWR zdroje: 23 mm
Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : electron cyclotron wave resonance * minimal Fab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0327313 - 3.0542520 - ÚFCH JH 2022 RIV CH eng J - Journal Article
Imrich, T. - Krýsová, Hana - Neumann-Spallart, M. - Krýsa, J.
Fe2O3 photoanodes: Photocorrosion protection by thin SnO2 and TiO2 films.
Journal of Electroanalytical Chemistry. Roč. 892, JUL 2021 (2021), č. článku 115282. ISSN 1572-6657. E-ISSN 1873-2569
R&D Projects: GA ČR(CZ) GA20-11635S; GA MŠMT(CZ) LM2018124
Institutional support: RVO:61388955
Keywords : Aerosol pyrolysis * ald * Hematite * Photocorrosion * SnO 2 * TiO 2
OECD category: Physical chemistry
Impact factor: 4.598, year: 2021
Method of publishing: Limited access
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0319916File Download Size Commentary Version Access 0542520.pdf 1 1.4 MB Publisher’s postprint require - 4.0539967 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
ICP plazma zdroj.
[ICP plasma source.]
Internal code: FVMF2/FZU/2020 ; 2020
Technical parameters: Vnější průměr vstupní části ICP zdroje: 6 mm. Vnitřní průměr vstupní části ICP zdroje: 4 mm. Vnější průměr pracovní části ICP zdroje: 25 mm. Vnitřní průměr pracovní části ICP zdroje: 23 mm.
Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : inductively coupled plasma * Minimal Fab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0317650 - 5.0539266 - ÚFCH JH 2022 RIV CH eng J - Journal Article
Imrich, T. - Zazpe, R. - Krýsová, Hana - Paušová, Š. - Dvořák, F. - Rodriguez-Pereira, J. - Michalička, J. - Man, O. - Macák, J. M. - Neumann-Spallart, M. - Krýsa, J.
Protection of hematite photoelectrodes by ALD-TiO2 capping.
Journal of Photochemistry and Photobiology A-Chemistry. Roč. 409, MAR 2021 (2021), č. článku 113126. ISSN 1010-6030. E-ISSN 1873-2666
R&D Projects: GA ČR(CZ) GA20-11635S
Institutional support: RVO:61388955
Keywords : ald * Chemical dissolution * Hematite * TiO capping layer 2 * xps
OECD category: Electrochemistry (dry cells, batteries, fuel cells, corrosion metals, electrolysis)
Impact factor: 5.141, year: 2021
Method of publishing: Limited access
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0316942File Download Size Commentary Version Access 053266.pdf 1 4.4 MB Publisher’s postprint require - 6.0539010 - FZÚ 2021 RIV GB eng J - Journal Article
Hansen, P.-A. - Zikmund, Tomáš - Yu, T. - Kvalvik, J.N. - Aarholt, T. - Prytz, O. - Meijerink, A. - Nilsen, O.
Single-step approach to sensitized luminescence through bulk-embedded organics in crystalline fluorides.
Communications Chemistry. Roč. 3, č. 1 (2020), s. 1-10, č. článku 162. ISSN 2399-3669. E-ISSN 2399-3669
R&D Projects: GA ČR GA16-22092S
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : atomic layer deposition * thin-films * up-conversion * ALD * photoluminescence * TiF4 * Pr * Tb * Eu * Dy
OECD category: Nano-materials (production and properties)
Impact factor: 6.581, year: 2020
Method of publishing: Open access
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0316748File Download Size Commentary Version Access 0539010.pdf 0 1.9 MB CC licence Publisher’s postprint open-access - 7.0537056 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kapran, Anna - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
Optimalizovaný surfatronový plazmový zdroj pro PE-ALD systém.
[Optimized surfatron plasma source for PE-ALD deposition system.]
Internal code: FVMF1/FZU/2020 ; 2020
Technical parameters: Vnější průměr křemenné trubičky: 6 mm, vnitřní průměr křemenné trubičky: 4 mm, výstupní tryska: kónická tryska, typ surfatron: mosazný rezonátor typu SAIREM s integrovanou přizpůsobovací jednotkou.
Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : microwave surfatron * MinimalFab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314808 - 8.0510399 - FZÚ 2020 RIV DE eng J - Journal Article
Ng, S. - Kuberský, P. - Krbal, M. - Přikryl, J. - Gärtnerová, Viera - Moravcová, D. - Sopha, H. - Zazpe, R. - Yam, F.K. - Jäger, Aleš - Hromádko, L. - Beneš, L. - Hamáček, A. - Macák, J. M.
ZnO coated anodic 1D TiO2 nanotube layers: efficient Photo-electrochemical and gas sensing heterojunction.
Advanced Engineering Materials. Roč. 20, č. 2 (2018), s. 1-10, č. článku 1700589. ISSN 1438-1656. E-ISSN 1527-2648
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : enhancement * ALD * TiO2 * ZnO coatings * nanotube layers * heterojunction
OECD category: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impact factor: 2.906, year: 2018
Method of publishing: Limited access
https://doi.org/10.1002/adem.201700589
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0300906 - 9.0486974 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tvarog, Drahoslav - Pultar, M. - Šmíd, Jiří - Straňák, Vítězslav - Olejníček, Jiří - Poruba, Aleš - Vaněk, J. - Pečiva, L. - Lukašík, P. - Dolák, J.
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm.
[Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm.]
Internal code: FV1/FZU/2017 ; 2017
Technical parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Economic parameters: Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
R&D Projects: GA TA ČR TF03000025
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0281681 - 10.0449337 - FZÚ 2016 RIV NL eng J - Journal Article
Kment, Š. - Hubička, Zdeněk - Krysa, C. - Sekora, D. - Zlámal, M. - Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Remeš, Zdeněk - Schmuki, P. - Schubert, E. - Zbořil, R.
On the improvement of PEC activity of hematite thin films deposited by high-power pulsed magnetron sputtering method.
Applied Catalysis B - Environmental. Roč. 165, Apr (2015), s. 344-350. ISSN 0926-3373. E-ISSN 1873-3883
R&D Projects: GA ČR GAP108/12/2104; GA MŠMT LH12043
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : ALD * HiPIMS * passivation layer * photoelectrochemical water splitting * very thin films
Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
Impact factor: 8.328, year: 2015
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0250894