Search results

  1. 1.
    0496767 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Drozd, Michal - Knápek, Alexandr - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pavelka, Jan - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr
    Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu.
    [Apparatus for detecting of particles in coated resist layer.]
    Internal code: APL-2018-05 ; 2018
    Technical parameters: Jedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘.
    Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
    R&D Projects: GA TA ČR TG03010046; GA MŠk(CZ) LO1212
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : e–beam lithography * quality control * image processing
    OECD category: Automation and control systems
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0289410
     
     


  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.