Search results
- 1.0575340 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Matějka, Milan - Brunn, Ondřej
Kalibrační standard s mikro reliéfní kalibrační strukturou zaznamenané v tenké vrstvě.
[Calibration standard with micro relief calibration structure recorded in a thin layer.]
Internal code: APL-2024-01 ; 2024
Technical parameters: Křemíkový čip rozměru 10 mm x 10 mm obsahující motiv kalibračních vzorů (s mikronovým a submikronovým rozlišením) vytvořených v tenké vrstvě feromagnetického materiálu naneseného pomocí PVD techniky.
Economic parameters: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) FW03010504
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : Calibration sample for microscopy * ferromagnetic layers * electron lithography
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0345129 - 2.0544775 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Kopal, Jaroslav - Brunn, Ondřej - Fordey, T. - Schovánek, P.
Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky.
[Special photomask for wavefront measurement of projection optics.]
Internal code: APL-2021-04 ; 2021
Technical parameters: Rozměry vzorku: disk o průměru 20 mm tloušťky 0,6 mm. Mezní rozlišení vzorku: 511,36 nm.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : electron beam lithography * photomask
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0321586 - 3.0518090 - ÚPT 2020 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Brunn, Ondřej - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Lahoda, Jaroslav - Matějka, Milan
Aparatura pro merení difrakcní úcinnosti a vyzarovací charakteristiky.
[Apparatus for diffraction efficiency and radiation pattern measurement.]
Internal code: APL-2019-20 ; 2019
Technical parameters: Otočná základna s rozsahem 360 st., optická lišta o délce 600 mm, vývojový kit Arduino Uno, software v prostředí LabVIEW + LINX.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
R&D Projects: GA MV(CZ) VI20192022147
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : diffraction efficiency * radiation pattern * light intensity measurement
OECD category: Electrical and electronic engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0303276 - 4.0481742 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Knápek, Alexandr - Giričová, D. - Brunn, Ondřej
Propagační hologram “av21”Strategie AV ČR AV21.
[Promotional hologram “av21” Strategy CAS AV21.]
Internal code: APL-2017-04 ; 2017
Technical parameters: Zřízení má rozměr 46 mm x 30 mm (výsek štítku má rozměr 42 mm x 26 mm). Zařízení obashuje čárové mřížky, spirálovou mřížku, zonální prvky a strukturu CGH.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantů je využíván příjemcem. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * planar microstructure * diffractive device
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0277246