Search results

  1. 1.
    0480747 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
    Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Matějka, F. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír
    Příprava TFE W(100) ZrO katod.
    [TFE W(100) ZrO emitter preparation.]
    Internal code: APL-2017-3 ; 2017
    Technical parameters: Katody se připravují z W(100) monokrystalu. Standardní svítivost katody je 0,5 mA/sr. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší a vysokovakuovou aparaturu
    Economic parameters: Ověřená technologie vznikla při řešení grantů. Ověřenou technologii využívá příjemce jednak při zajištění provozu aparatury elektronového litografu TESLA BS600 využívaného pro řešení řady projektů, a jednak v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    R&D Projects: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA TA ČR TE01020233; GA MPO FR-TI1/576
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : elektronová litografie * katoda * emitér * termo auto emise * W(100)
    Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
    OECD category: Electrical and electronic engineering
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0276457
     
     
  2. 2.
    0478403 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
    Chlumská, Jana - Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír
    Ovrstvení Si desek tlustou vrstvou rezistu a kontrola vrstvy.
    [Thick layer coating on Si wafers and the control of the layer.]
    Internal code: APL-2017-02 ; 2017
    Technical parameters: Vrstvy rezistu se nanáší na křemíkové podložky průměru 4-6 palců. Nominální tloušťka vrstev je 10 mikronů. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší.
    Economic parameters: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantů, využívaná příjemcem při vývoji planárních mikrostruktur v rámci projektu FV10618 a v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    R&D Projects: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : e-beam lithography * PMMA rezist * thick layers * spin coating
    Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
    OECD category: Materials engineering
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0274516
     
     
  3. 3.
    0470911 - ÚPT 2017 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
    Pilát, Zdeněk - Ježek, Jan - Zemánek, Pavel - Trtílek, M.
    Technologie zhotovení pokročilých PDMS mikrofluidních čipů s vnitřními stěnami odolnými k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám.
    [Technology of manufacturing of advanced PDMS microfluidic chips with inner walls resistant to organic solvents and small nonpolar organic molecules.]
    Internal code: APL-2016-16 ; 2016
    Technical parameters: Technologie je založena na vhánění tlakového vzduchu zbaveného vlhkosti a nečistot do prostoru ionizátoru, kde probíhá doutnavý elektrický výboj (5-20 kV), který ionizuje kyslíkové a dusíkové molekuly, čímž je generován ozon (O3) a oxidy dusíku (NOx). Vzniklá směs plynů se silnými oxidačními vlastnostmi je vháněna kapilárou do kanálků mikrofluidního čipu vytvořeného z PDMS (poly-(dimethylsiloxan), případně z kombinace PDMS a skla. Ozon přítomný ve směsi rychle aktivuje vnitřní stěny kanálků ze skla a PDMS a oxiduje organické nečistoty za vzniku CO2. Při delší expozici (1 hodina a více) PDMS výrazně oxiduje v povrchové vrstvě až na oxid křemičitý (SiO2). Takto upravený povrch vykazuje oproti běžnému PDMS zvýšenou odolnost k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám. Vrstva SiO2 efektivně zabraňuje difuzi těchto molekul do PDMS. Použitý doutnavý výboj je generován pomocí hrotových elektrod se vzduchem jako dielektrikem, nebo mřížkovými elektrodami se skleněným dielektrikem.
    Economic parameters: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu. Je uzavřena smlouva o využití výsledku s firmou PSI (Photon Systems Instruments), spol. s r.o. (IČ 60646594) s dohodnutým rozdělením výnosů. Kontakt: Mgr. Zdeněk Pilát, Ph.D., pilat@isibrno.cz
    R&D Projects: GA TA ČR TA03010642; GA MŠk(CZ) LO1212
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : microfluidic chips * PDMS
    Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0268421
     
     
  4. 4.
    0470129 - ÚPT 2017 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
    Dvořáček, F. - Dvořáčková, Š. - Buchta, Zdeněk - Čížek, Martin - Šarbort, Martin - Řeřucha, Šimon - Hucl, Václav - Pikálek, Tomáš - Mikel, Břetislav - Lazar, Josef - Číp, Ondřej
    Kalibrace koncových měrek bezkontaktní metodou.
    [System for contactless mass calibration of gauge blocks.]
    Internal code: APL-2016-15 ; 2016
    Technical parameters: Poloprovoz využívá bezkontaktní metodu měření délky měrky dle patentu ČR 302948 a dále zapojení nezbytných zařízení a přístrojů do měřicího procesu včetně požadavku na přípravu koncové měrky k vlastnímu měření.
    Economic parameters: Je uzavřená Smlouva o využití výsledku výzkumu a vývoje pro projekt TA03010663 a poloprovoz bude probíhat v rámci kalibrační laboratoře Českého metrologického institutu (IČ 00177016) (viz Osvědčení o akreditaci), kontakt: Ing. Ondřej Číp, Ph.D., ocip@isibrno.cz
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TA03010663; GA MŠk(CZ) LO1212
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : Gauge block * double ended interferometer * mass calibration * length metrology
    Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0267856
     
     
  5. 5.
    0468828 - ÚPT 2017 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
    Šerý, Mojmír
    Hyperspektrální spektrograf.
    [Hyperspectral spectrograph.]
    Internal code: APL-2016-13 ; 2016
    Technical parameters: Hyperspektrální spektrograf je složen ze vstupní štěrbiny, konvexní difrakční mřížky a dvou konkávních zrcadel. Elektromagnetické záření vystupující ze vstupní štěrbiny je zkolimováno prvním konkávním zrcadlem na konvexní difrakční mřížku kde dojde k úhlovému rozložení elektromagnetického spektra v jednom směru. Ve směru kolmém se zachovává obrazová informace. Elektromagnetické záření je následně zobrazeno druhým konkávním zrcadlem do výstupní roviny. Nastavení optických prvků se provádí s pomocí šroubů s jemným stoupáním. Všechny optické komponenty jsou uloženy v kompaktním mechanice z kvalitního a rozměrově stabilního materiálu.
    Economic parameters: Ověřená technologie hyperspektrálního spektrografu, na jehož základě jsou vyráběny Hyperspektrální kamery firmou PSI (Photon Systems Instruments), spol. s r.o. (IČ 60646594) dle smlouvy o využití know-how. Kontakt: Ing. Mojmír Šerý, Ph.D., sery@isibrno.cz
    R&D Projects: GA MŠk(CZ) LO1212
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : hyperspectral imaging * diffraction grating
    Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0266641