Search results

0480747 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Matějka, F. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír
Příprava TFE W(100) ZrO katod.
[TFE W(100) ZrO emitter preparation.]
Internal code: APL-2017-3 ; 2017
Technical parameters: Katody se připravují z W(100) monokrystalu. Standardní svítivost katody je 0,5 mA/sr. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší a vysokovakuovou aparaturu
Economic parameters: Ověřená technologie vznikla při řešení grantů. Ověřenou technologii využívá příjemce jednak při zajištění provozu aparatury elektronového litografu TESLA BS600 využívaného pro řešení řady projektů, a jednak v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA TA ČR TE01020233; GA MPO FR-TI1/576
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : elektronová litografie * katoda * emitér * termo auto emise * W(100)
OECD category: Electrical and electronic engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0276457

0470911 - ÚPT 2017 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
Pilát, Zdeněk - Ježek, Jan - Zemánek, Pavel - Trtílek, M.
Technologie zhotovení pokročilých PDMS mikrofluidních čipů s vnitřními stěnami odolnými k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám.
[Technology of manufacturing of advanced PDMS microfluidic chips with inner walls resistant to organic solvents and small nonpolar organic molecules.]
Internal code: APL-2016-16 ; 2016
Technical parameters: Technologie je založena na vhánění tlakového vzduchu zbaveného vlhkosti a nečistot do prostoru ionizátoru, kde probíhá doutnavý elektrický výboj (5-20 kV), který ionizuje kyslíkové a dusíkové molekuly, čímž je generován ozon (O3) a oxidy dusíku (NOx). Vzniklá směs plynů se silnými oxidačními vlastnostmi je vháněna kapilárou do kanálků mikrofluidního čipu vytvořeného z PDMS (poly-(dimethylsiloxan)), případně z kombinace PDMS a skla. Ozon přítomný ve směsi rychle aktivuje vnitřní stěny kanálků ze skla a PDMS a oxiduje organické nečistoty za vzniku CO2. Při delší expozici (1 hodina a více) PDMS výrazně oxiduje v povrchové vrstvě až na oxid křemičitý (SiO2). Takto upravený povrch vykazuje oproti běžnému PDMS zvýšenou odolnost k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám. Vrstva SiO2 efektivně zabraňuje difuzi těchto molekul do PDMS. Použitý doutnavý výboj je generován pomocí hrotových elektrod se vzduchem jako dielektrikem, nebo mřížkovými elektrodami se skleněným dielektrikem.
Economic parameters: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu. Je uzavřena smlouva o využití výsledku s firmou PSI (Photon Systems Instruments), spol. s r.o. (IČ 60646594) s dohodnutým rozdělením výnosů. Kontakt: Mgr. Zdeněk Pilát, Ph.D., pilat@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR TA03010642; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : microfluidic chips * PDMS
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0268421

0468828 - ÚPT 2017 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
Šerý, Mojmír
Hyperspektrální spektrograf.
[Hyperspectral spectrograph.]
Internal code: APL-2016-13 ; 2016
Technical parameters: Hyperspektrální spektrograf je složen ze vstupní štěrbiny, konvexní difrakční mřížky a dvou konkávních zrcadel. Elektromagnetické záření vystupující ze vstupní štěrbiny je zkolimováno prvním konkávním zrcadlem na konvexní difrakční mřížku kde dojde k úhlovému rozložení elektromagnetického spektra v jednom směru. Ve směru kolmém se zachovává obrazová informace. Elektromagnetické záření je následně zobrazeno druhým konkávním zrcadlem do výstupní roviny. Nastavení optických prvků se provádí s pomocí šroubů s jemným stoupáním. Všechny optické komponenty jsou uloženy v kompaktním mechanice z kvalitního a rozměrově stabilního materiálu.
Economic parameters: Ověřená technologie hyperspektrálního spektrografu, na jehož základě jsou vyráběny Hyperspektrální kamery firmou PSI (Photon Systems Instruments), spol. s r.o. (IČ 60646594) dle smlouvy o využití know-how. Kontakt: Ing. Mojmír Šerý, Ph.D., sery@isibrno.cz
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LO1212
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : hyperspectral imaging * diffraction grating
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0266641