Search results
- 1.0566446 - ÚPT 2023 RIV CZ cze V - Research Report
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2022-57: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2022-57: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2022. 5 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0337763
- 2.0565756 - ÚPT 2023 RIV CZ cze V - Research Report
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
SMV-2022-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky.
[SMV-2022-01: Relief structures based on diffractive optics.]
Brno: IQS nano s.r.o., 2022. 21 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0337265
- 3.0549960 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Research Report
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec.
[SMV-2021-31: TELIGHT aiming pattern.]
Brno: TELIGHT Brno, s.r.o., 2021. 8 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : e-beam lithography * optics * reactive ion etching
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0325852
- 4.0549956 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Research Report
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
SMV-2021-07: Reliéfní mikrostruktury na principu difraktivní optiky.
[SMV-2021-07: Relief microstructures based on diffractive optics.]
Brno: IQS Group s.r.o., 2021. 4 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0325849
- 5.0549952 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Research Report
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
SMV-2021-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky.
[SMV-2021-01: Relief structures based on diffractive optics.]
Brno: IQS nano s.r.o., 2021. 22 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0325848
- 6.0545142 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Research Report
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2021-03: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Tescan Brno, s.r.o., 2021. 6 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0321890
- 7.0545141 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Research Report
Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Kopal, Jaroslav
SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav.
[SMV-2021-02: Development and implementation of amplitude masks for adjustment of optomechanical systems.]
Brno: Meopta - optika, s.r.o., 2021. 6 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : e-beam lithography * lithography mask
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0321889
- 8.0536616 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Research Report
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Pokorná, Zuzana
SMV-2020-23: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2020-23: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Tescan Brno s.r.o., 2020. 8 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : relief structure: e-beam lithography * silicon etching * microlithography
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314396
- 9.0536030 - ÚPT 2021 CZ cze V - Research Report
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
SMV-2020-24: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2020-24: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Delong Instruments, a.s., 2020. 7 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : relief structure: e-beam lithography * relief structure: silicon etching * silicon etching * microlithography
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0313879
- 10.0535442 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Research Report
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav … Total 8 authors
SMV-2020-20: Reliéfní mikrostruktury na principu difraktivní optiky.
[SMV-2020-20: Relief microstructures based on diffractive optics.]
Brno: IQS Group s.r.o., 2020. 15 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0313460