Search results
- 1.0584699 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Kopal, Jaroslav - Burda, Daniel
Litografická maska s nanometrickým rozlišením.
[Lithographic mask with nanometer accuracy.]
Internal code: APL-2024-02 ; 2024
Technical parameters: Kalibrační a metrologická pomůcka pro dosažení přesných výsledků při měření v optickém světelném spektru. Funkční vzorek je navržen jako mikroskopické sklíčko o rozměru cca. 76 mm x 26 mm, na kterém je umístěn motiv (resp. motivy) o celkovém rozměru cca. 46.7 mm x 18.5 mm.
Economic parameters: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz.
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN02000020
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : calibration * optical * devices * resolution
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0352542 - 2.0564285 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Burda, Daniel - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pirunčík, J. - Aubrecht, I.
Komplexní zabezpečovací známka.
[A comprehensive security stamp.]
Internal code: APL–2022‐05 ; 2022
Technical parameters: Zabezpečovací známka v polymerním materiálu provedená zápisem pomocí elektronové litografie obsahující difrakční opticky variabilní obrazové prvky typu struktur s krátkou a velmi krátkou periodou, neperiodické struktury s variabilní hloubkou, blejzované struktury, mikročočky a další zajišťovací prvky v mikro a nano oblasti
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D.
R&D Projects: GA MV(CZ) VI20192022147
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : security * diffraction * optically variable image element * e‐beam writer * periodic * non‐periodic * blazed * microlens
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0336066 - 3.0544061 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Matějka, Milan - Burda, Daniel - Ondříšková, Martina - Lalinský, Ondřej - Horodyský, P.
Litografická maska.
[Lithographic mask.]
Internal code: APL-2021-03 ; 2021
Technical parameters: Základními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : electron beam lithography * photomask
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0321117 - 4.0543692 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Burda, Daniel - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pirunčík, J. - Aubrecht, I.
Vzorník parciálních difrakčních a refrakčních struktur.
[Sampler of partial diffractive and refractive elements.]
Internal code: APL-2021-02 ; 2021
Technical parameters: Master (Si), galvanická replika (Ni), výlisek v polymerním materiálu.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
R&D Projects: GA MV(CZ) VI20192022147
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : diffraction * refraction * optically variable image element * e-beam writer
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0320871 - 5.0536665 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír - Burda, Daniel
Optický element vyvazující světlo z tenké transparentní podložky.
[An optical element that transmits light from a thin transparent pad.]
Internal code: APL-2020-10 ; 2020
Technical parameters: Optický element tvořený planární strukturou v tenké vrstvě rezistu nanesené na průhledné podložce. Základním parametrem optického elementu je množství světla vyvedeného pomocí této planární struktury.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : diffractive optical element * electron lithography * reactive ion etching * YAG phosphor * thin film deposition * PVD
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314401 - 6.0536218 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Chlumská, Jana - Úlehla, L. - Moťka, L.
Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu.
[Special photomask for image distortion measurement of projection optics.]
Internal code: APL-2020-04 ; 2020
Technical parameters: Motiv kovové masky obsahuje matici přesně velikých čtvercových útvarů sloužících ke kontrole nastavení výrobního procesu
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * reactive ion etching
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314036 - 7.0535780 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Stoklasa, B. - Venos, Š. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Pokorný, Pavel
Difraktivní optický element generující besselovské svazky s potlačením distribuce energie do vedlejších minim.
[Diffractive optical element generating Bessel beams with suppression of energy distribution to lateral minima.]
Internal code: APL-2020-03 ; 2020
Technical parameters: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící ke korekci vstupního Besselovského svazku
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
R&D Projects: GA MPO(CZ) FV40197
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : Bessel beam reactive ion etching * diffractive optical element * e–beam lithography * reactive ion etching
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0313713 - 8.0496767 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Drozd, Michal - Knápek, Alexandr - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pavelka, Jan - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr
Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu.
[Apparatus for detecting of particles in coated resist layer.]
Internal code: APL-2018-05 ; 2018
Technical parameters: Jedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR TG03010046; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * quality control * image processing
OECD category: Automation and control systems
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0289410 - 9.0481742 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Knápek, Alexandr - Giričová, D. - Brunn, Ondřej
Propagační hologram “av21”Strategie AV ČR AV21.
[Promotional hologram “av21” Strategy CAS AV21.]
Internal code: APL-2017-04 ; 2017
Technical parameters: Zřízení má rozměr 46 mm x 30 mm (výsek štítku má rozměr 42 mm x 26 mm). Zařízení obashuje čárové mřížky, spirálovou mřížku, zonální prvky a strukturu CGH.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantů je využíván příjemcem. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * planar microstructure * diffractive device
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0277246 - 10.0474978 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana
Fylotaktické difrakční obrazové zařízení.
[Phyllotactic diffractive image device.]
Internal code: APL-2017-01 ; 2017
Technical parameters: Zařízení má průměr 32 mm. Středová oblast průměru 23 mm obsahuje difrakční křížovou mřížku, jejíž optické elementy jsou uspořádány podél spirály s délkou 20 km. Při konstrukci je dále použito běžných mřížek a zonálních prvků.
Economic parameters: Repliky funkčního vzorku realizovaného při řešení grantů jsou využívány příjemcem. Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D., kolariq@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * planar microstructure * diffractive device
OECD category: Construction engineering, Municipal and structural engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0271868