Search results
- 1.0496767 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Drozd, Michal - Knápek, Alexandr - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pavelka, Jan - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr
Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu.
[Apparatus for detecting of particles in coated resist layer.]
Internal code: APL-2018-05 ; 2018
Technical parameters: Jedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR TG03010046; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * quality control * image processing
OECD category: Automation and control systems
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0289410 - 2.0481742 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Knápek, Alexandr - Giričová, D. - Brunn, Ondřej
Propagační hologram “av21”Strategie AV ČR AV21.
[Promotional hologram “av21” Strategy CAS AV21.]
Internal code: APL-2017-04 ; 2017
Technical parameters: Zřízení má rozměr 46 mm x 30 mm (výsek štítku má rozměr 42 mm x 26 mm). Zařízení obashuje čárové mřížky, spirálovou mřížku, zonální prvky a strukturu CGH.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantů je využíván příjemcem. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * planar microstructure * diffractive device
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0277246 - 3.0474978 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana
Fylotaktické difrakční obrazové zařízení.
[Phyllotactic diffractive image device.]
Internal code: APL-2017-01 ; 2017
Technical parameters: Zařízení má průměr 32 mm. Středová oblast průměru 23 mm obsahuje difrakční křížovou mřížku, jejíž optické elementy jsou uspořádány podél spirály s délkou 20 km. Při konstrukci je dále použito běžných mřížek a zonálních prvků.
Economic parameters: Repliky funkčního vzorku realizovaného při řešení grantů jsou využívány příjemcem. Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D., kolariq@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * planar microstructure * diffractive device
OECD category: Construction engineering, Municipal and structural engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0271868 - 4.0464662 - ÚPT 2017 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr
Opticky variabilní obrazové zařízení cas 1.
[Optically variable image device.]
Internal code: APL-2016-01 ; 2016
Technical parameters: Zařízení má velikost 33 mm x 33 mm. Středová oblast průměru 20 mm obsahuje difrakční vrypy délky 571 metrů. Podkladová oblast s UV mřížkou obsahuje vrypy délky 2,5 km. Při konstrukci je dále použito 9 zonálních prvků, 5 holografických prvků a jeden zajišťovací mikro grafický prvek.
Economic parameters: Repliky funkčního vzorku realizovaného při řešení grantů jsou využívány příjemcem.Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D., kolariq@isibrno.cz
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LO1212
Keywords : e-beam lithography * planar microstructure * diffractive device
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0265190 - 5.0336579 - ÚPT 2010 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Matějka, František - Matějka, Milan - Urbánek, Michal - Král, Stanislav
Elektronový litograf s urychlovacím napětím 15kV a tvarovaným svazkem do 25nm - BS600/TZ-0.
[E-Beam Writer at 15kV with Shaped Electron Beam of Minimum Size 25nm BS600/TZ-0.]
Internal code: 6241 ; 2009
Technical parameters: Velikost svazku: 25-3150 nm. Otočení souřadnic tvarování: -30 stupňů. Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 0,8 – 1,6 – 4,8 A/cm2.
Economic parameters: Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožnilo realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
Institutional research plan: CEZ:AV0Z20650511
Keywords : Electron Beam Lithography with Shaped Beam
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0180783