Search results

  1. 1.
    0480747 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
    Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Matějka, F. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír
    Příprava TFE W(100) ZrO katod.
    [TFE W(100) ZrO emitter preparation.]
    Internal code: APL-2017-3 ; 2017
    Technical parameters: Katody se připravují z W(100) monokrystalu. Standardní svítivost katody je 0,5 mA/sr. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší a vysokovakuovou aparaturu
    Economic parameters: Ověřená technologie vznikla při řešení grantů. Ověřenou technologii využívá příjemce jednak při zajištění provozu aparatury elektronového litografu TESLA BS600 využívaného pro řešení řady projektů, a jednak v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    R&D Projects: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA TA ČR TE01020233; GA MPO FR-TI1/576
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : elektronová litografie * katoda * emitér * termo auto emise * W(100)
    OECD category: Electrical and electronic engineering
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0276457

               
     
     
  2. 2.
    0478403 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
    Chlumská, Jana - Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír
    Ovrstvení Si desek tlustou vrstvou rezistu a kontrola vrstvy.
    [Thick layer coating on Si wafers and the control of the layer.]
    Internal code: APL-2017-02 ; 2017
    Technical parameters: Vrstvy rezistu se nanáší na křemíkové podložky průměru 4-6 palců. Nominální tloušťka vrstev je 10 mikronů. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší.
    Economic parameters: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantů, využívaná příjemcem při vývoji planárních mikrostruktur v rámci projektu FV10618 a v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    R&D Projects: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : e-beam lithography * PMMA rezist * thick layers * spin coating
    OECD category: Materials engineering
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0274516

               
     
     
  3. 3.
    0336589 - ÚPT 2010 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
    Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Horáček, Miroslav - Lencová, Bohumila - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Mikšík, P. - Vašina, J. - Horák, R.
    Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm.
    [E-Beam Writing Technology with Variable Beam Size of 66 - 2100 nm.]
    Internal code: 162 410 ; 2009
    Technical parameters: Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 1,8 – 3,6 – 14,4 A/cm2. Otočení souřadnic tvarování, vychylování a posuvu substrátu: -45 stupňů.
    Economic parameters: Desetkrát vyšší proudová hustota umožňuje zvýšit základní expoziční dobu až desetkrát, což má přímý vliv na produktivitu. Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožňuje realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
    R&D Projects: GA MPO FR-TI1/576
    Keywords : electron beam lithography * shaped electron beam
    Subject RIV: JP - Industrial Processing
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0180792