Search results
- 1.0575340 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Matějka, Milan - Brunn, Ondřej
Kalibrační standard s mikro reliéfní kalibrační strukturou zaznamenané v tenké vrstvě.
[Calibration standard with micro relief calibration structure recorded in a thin layer.]
Internal code: APL-2024-01 ; 2024
Technical parameters: Křemíkový čip rozměru 10 mm x 10 mm obsahující motiv kalibračních vzorů (s mikronovým a submikronovým rozlišením) vytvořených v tenké vrstvě feromagnetického materiálu naneseného pomocí PVD techniky.
Economic parameters: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) FW03010504
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : Calibration sample for microscopy * ferromagnetic layers * electron lithography
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0345129 - 2.0570633 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Pavlačík, P. - Škoda, D. - Matějka, Milan
Matrice s difraktivními prvky přizpůsobená více násobné výrobě záměrných křížů ve sportovní a vojenské optice.
[Matrix with diffractive elements adapted to multiple production of intentional crosses in sports and military optics.]
Internal code: APL-2021-17 ; 2021
Technical parameters: Matrice pro realizaci difraktivní mřížky záměrného kříže. Periodická submikrometrová struktura účinně zesilující laserový svazek v 1. difraktivním řádu. Tento design vede ke snížení energetické náročnosti osvětlovacího modulu záměrného kříže.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
R&D Projects: GA MPO(CZ) FV40197
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : nanoimprint * NIL * reticle * diffractive pattern
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0341939 - 3.0564285 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Burda, Daniel - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pirunčík, J. - Aubrecht, I.
Komplexní zabezpečovací známka.
[A comprehensive security stamp.]
Internal code: APL–2022‐05 ; 2022
Technical parameters: Zabezpečovací známka v polymerním materiálu provedená zápisem pomocí elektronové litografie obsahující difrakční opticky variabilní obrazové prvky typu struktur s krátkou a velmi krátkou periodou, neperiodické struktury s variabilní hloubkou, blejzované struktury, mikročočky a další zajišťovací prvky v mikro a nano oblasti
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D.
R&D Projects: GA MV(CZ) VI20192022147
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : security * diffraction * optically variable image element * e‐beam writer * periodic * non‐periodic * blazed * microlens
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0336066 - 4.0544061 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Matějka, Milan - Burda, Daniel - Ondříšková, Martina - Lalinský, Ondřej - Horodyský, P.
Litografická maska.
[Lithographic mask.]
Internal code: APL-2021-03 ; 2021
Technical parameters: Základními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : electron beam lithography * photomask
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0321117 - 5.0543692 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Burda, Daniel - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pirunčík, J. - Aubrecht, I.
Vzorník parciálních difrakčních a refrakčních struktur.
[Sampler of partial diffractive and refractive elements.]
Internal code: APL-2021-02 ; 2021
Technical parameters: Master (Si), galvanická replika (Ni), výlisek v polymerním materiálu.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
R&D Projects: GA MV(CZ) VI20192022147
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : diffraction * refraction * optically variable image element * e-beam writer
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0320871 - 6.0539634 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Škoda, D. - Pavlačík, P. - Proroková, J. - Matějka, Milan - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Burda, Daniel
Difraktivní optický element velikosti záměrného bodu vyvazující dopadající záření do 1. difrakčního řádu s využitím ve sportovní a vojenské optice.
[Diffractive optical element of size of aiming point binding incident radiation to the 1st diffraction order with use in sports and military optics.]
Internal code: APL-2020-23 ; 2020
Technical parameters: Vzorek obsahují řadu difraktivních bodů se submikronovou reliéfní strukturou vytvořenou metodou EBL a Lift-off za účelem vyvázání světla z laserové diody
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
R&D Projects: GA MPO(CZ) FV40197
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : diffractive optical element * e–beam lithography * reactive ion etching
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0317342 - 7.0536665 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír - Burda, Daniel
Optický element vyvazující světlo z tenké transparentní podložky.
[An optical element that transmits light from a thin transparent pad.]
Internal code: APL-2020-10 ; 2020
Technical parameters: Optický element tvořený planární strukturou v tenké vrstvě rezistu nanesené na průhledné podložce. Základním parametrem optického elementu je množství světla vyvedeného pomocí této planární struktury.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : diffractive optical element * electron lithography * reactive ion etching * YAG phosphor * thin film deposition * PVD
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314401 - 8.0536583 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Krátký, Stanislav - Fořt, Tomáš - Matějka, Milan - Materna-Mikmeková, Eliška - Radlička, Tomáš - Řiháček, Tomáš - Sháněl, O. - Schneider, M. - Mareček, D.
Fázová destička pro použití v transmisní elektronové mikroskopii.
[Phase plate for transmission electron microscopy.]
Internal code: APL-2020-07 ; 2020
Technical parameters: Křemíkový čip (tloušťka 200 µm) nesoucí tenkou nitridovou membránu (tloušťka ⁓70 nm). Otvor membrány je čtvercového tvaru o rozměru 100×100 µm. Čip je upevněný na platinové clonce o průměru 3 mm. Celý vzorek je pokoven tenkou vrstvou molybdenu (⁓3 nm).
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : transmission electron microscopy * phase plate * silicon nitride * thin layers * e-beam lithography
OECD category: Electrical and electronic engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314347 - 9.0518090 - ÚPT 2020 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Brunn, Ondřej - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Lahoda, Jaroslav - Matějka, Milan
Aparatura pro merení difrakcní úcinnosti a vyzarovací charakteristiky.
[Apparatus for diffraction efficiency and radiation pattern measurement.]
Internal code: APL-2019-20 ; 2019
Technical parameters: Otočná základna s rozsahem 360 st., optická lišta o délce 600 mm, vývojový kit Arduino Uno, software v prostředí LabVIEW + LINX.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
R&D Projects: GA MV(CZ) VI20192022147
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : diffraction efficiency * radiation pattern * light intensity measurement
OECD category: Electrical and electronic engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0303276 - 10.0496767 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Drozd, Michal - Knápek, Alexandr - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pavelka, Jan - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr
Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu.
[Apparatus for detecting of particles in coated resist layer.]
Internal code: APL-2018-05 ; 2018
Technical parameters: Jedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR TG03010046; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * quality control * image processing
OECD category: Automation and control systems
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0289410