Search results
- 1.0537054 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Hrubantová, Aneta - Štěrba, J. - Mašková, H. - Olejníček, Jiří - Straňák, Vítězslav - Hubička, Zdeněk
Funkční vzorek antivirálního povlaku CuFeO2.
[Functional sample of antiviral thin film CuFeO2.]
Internal code: FVNCK1/FZU-JU/2020 ; 2020
Technical parameters: doba depozice 1 h, průtok argonu QAr= 26 sccm, průtok kyslíku QO2= 2 sccm, pracovní tlak p = 2 Pa
Economic parameters: Antivirální tenké vrstvy CuFeO2 byly deponovány pomocí RF magnetronového naprašování. Tato technologie je aplokovatelná v průmyslu a bude nabídnuta průmyslovému partnerovi.
R&D Projects: GA TA ČR TN01000038
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : antiviral films * RF sputtering * delafossite * magnetron
OECD category: Materials engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314806 - 2.0537052 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Straňák, Vítězslav - Hubička, Zdeněk - Hrabovský, M. - Schovánek, Petr
Funkční vzorek součástí chráněné otěruvzdorným povlakem vhodným pro vysokou mechanickou a tepelnou zátěž.
[Functional sample of part protected with antiabrasive and anticorrosion coating suitable for high mechanical and thermal loads.]
Internal code: FVNCK1/FZU-JU-UPOL/2020 ; 2020
Technical parameters: Předkládaný funkční vzorek představuje koncepční řešení pro depozice tvrdých, antiabrazivních vrstev (CrN) na vnitřní stěny dlouhých trubic s malým vnitřním průměrem.
Economic parameters: Byla vyvinuta technologie průmyslového povlakování vnitřku dlouhých ocelových trubic tvrdým adhezivním otěruvzdorným povlakek a tento díl byl otestován a nabídnut průmyslovému partnerovi.
R&D Projects: GA TA ČR TN01000038
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : hollow cathode discharge * thin films * tube * CrN * Cr
OECD category: Materials engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314804 - 3.0499948 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
[Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
Internal code: FVG1/FZU/2018 ; 2018
Technical parameters: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
R&D Projects: GA MPO FV20580
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0292132 - 4.0486974 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tvarog, Drahoslav - Pultar, M. - Šmíd, Jiří - Straňák, Vítězslav - Olejníček, Jiří - Poruba, Aleš - Vaněk, J. - Pečiva, L. - Lukašík, P. - Dolák, J.
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm.
[Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm.]
Internal code: FV1/FZU/2017 ; 2017
Technical parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Economic parameters: Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
R&D Projects: GA TA ČR TF03000025
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0281681 - 5.0390208 - FZÚ 2013 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Lukašík, P. - Piják, A. - Dolák, J. - Martinek, P. - Pitrun, J. - Rek, Š. - Konečný, L. - Mareš, G. - Štepánek, J. - Jakeš, J. - Křenek, Z. - Joštic, M. - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Straňák, Vítězslav - Hubička, Zdeněk - Babchenko, Oleg - Kromka, Alexander - Potocký, Štěpán
Automatizovaný systém kontroly průtoků pracovních plynů v MW plazmovém systému PLASMASTR02 s proudícími plazmovými kanály.
[Automatic system of mass flow control of working gasses in MW plasma system PLASMASTR02 with plasma jet channels.]
Internal code: PST2/FZÚ-SVCS/2012 ; 2012
Technical parameters: Počet regulačních větví 6. Rozsah průtokoměrů Ar 200 sccm. Rozsah průtokoměrů O2 200 sccm. Rozsah průtokoměrů H2 500 sccm. Rozsah průtokoměrů CO2 500 sccm. Řídící systém MTS04 - Digital 6xIn/8xOut. Funkční vzorek byl vytvořen v rámci řešení projektu TAČR TA01011740. Hlavním řešitelem projektu je firma SVCS (která má smlouvu s TAČR c. 20110108) a FZU je spoluřešitelem. Mezi FZU a SVCS je podepsána Smlouva o spolupráci, upravující podmínky spolupráce při přípravě a řešení Projektu a využití výsledků výzkumu, která je nutnou součástí řešení projektu. Odpovědným řešitelem za FZÚ je Dr. Kromka. Cislo dokumentace (i pro TACR) i inventarni cislo je totozne s internim kodem: PST2/FZÚ-SVCS/2012.
Economic parameters: Bude použitý v realizovaném systému jako výstupu projektu TAČR, který bude pak komerčně vyráběný
R&D Projects: GA TA ČR TA01011740
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100522
Keywords : microwave * surfatron * thin films * vacuum reactor * plasma * deposition * plasma jet * flowmeter
Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0219084 - 6.0371302 - FZÚ 2012 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Straňák, Vítězslav - Churpita, Olexandr - Čada, Martin - Jastrabík, Lubomír - Olejníček, Jiří - Babchenko, Oleg - Kromka, Alexander - Potocký, Štěpán - Lukašík, P. - Piják, A. - Dolák, J. - Martinek, P. - Pitrun, J. - Rek, Š. - Konečný, L. - Mareš, G. - Štepánek, J. - Jakeš, J. - Křenek, Z. - Joštic, M.
Hybridní a modulární mikrovlnný plazmatický depoziční systém s povrchovou vlnou a uspořádáním plazmatických kanálů PLASMASTR01.
[Hybrid and modular microwave plasmatic deposition system with surface wave and arranged plasma jets PLASMASTR01.]
Internal code: PST1/FZÚ-SVCS/2011 ; 2011
Technical parameters: Vnější průměr použité trubky surfatronu: 8 mm; Mikrovlnný zdroj: Sairem GMP150 max. výkon 1200W; Surfatron: Sairem SURFATRON 80 max. výkon 300W; Frekvenční pásmo: MW 2450 MHz; Pulzní modulace: 3Hz-1kH
Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
R&D Projects: GA TA ČR TA01011740
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100522
Keywords : microwave * surfatron * thin films * plasma * deposition * plasma jet * surface wave
Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0204848 - 7.0371285 - FZÚ 2012 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Straňák, Vítězslav - Šmíd, Jiří - Jastrabík, Lubomír - Kment, Štěpán - Dejneka, Alexandr
Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely.
[Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes.]
Internal code: FS1/FZÚ/2011 ; 2011
Technical parameters: Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A
Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
R&D Projects: GA TA ČR TA01010517
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100522
Keywords : sputtering * optical thin films * plasma * deposition * magnetron * hollow cathode
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0204834