0449867 - FZÚ 2016 RIV CZ cze L3 - Certified Methodologys
Jirásek, Vít - Potocký, Štěpán - Sveshnikov, AlexeyObecná metodika modelování vysokoteplotních technologických procesů metodou konečných prvků.
[General methodology for high temperature processes of semiconductor technology by the finite element methods.]
Internal code: CM 2014-04 ; 2014
Technical parameters: Metodika umožňuje výrazně snížit počet ladících procesů při zprovozňování nových pecí u zákazníků. Umožňuje mnohem jednodušší nastavení procesních parametrů pro výrobu konkrétních vrstev na Si deskách
Economic parameters: Díky této metodice dojde ke snížení náročnosti uvádění nových pecí do provozu, čímž dojde k redukci ceny těchto prací až o 3%.
Certifying body: SVCS Process Innovation s.r.o., Optátova 37, Brno 637 00, Česká republika.
Certificate issue date: 19.12.2014
R&D Projects: GA TA ČR TA01020972
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : CFD modelling * high temperature reactor * high temperature oxidation * phosphorus diffusion * boron diffusion * LPCVD * PECVD
Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0251280
