Search results
- 1.0464662 - ÚPT 2017 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr
Opticky variabilní obrazové zařízení cas 1.
[Optically variable image device.]
Internal code: APL-2016-01 ; 2016
Technical parameters: Zařízení má velikost 33 mm x 33 mm. Středová oblast průměru 20 mm obsahuje difrakční vrypy délky 571 metrů. Podkladová oblast s UV mřížkou obsahuje vrypy délky 2,5 km. Při konstrukci je dále použito 9 zonálních prvků, 5 holografických prvků a jeden zajišťovací mikro grafický prvek.
Economic parameters: Repliky funkčního vzorku realizovaného při řešení grantů jsou využívány příjemcem.Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D., kolariq@isibrno.cz
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LO1212
Keywords : e-beam lithography * planar microstructure * diffractive device
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0265190 - 2.0336579 - ÚPT 2010 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Matějka, František - Matějka, Milan - Urbánek, Michal - Král, Stanislav
Elektronový litograf s urychlovacím napětím 15kV a tvarovaným svazkem do 25nm - BS600/TZ-0.
[E-Beam Writer at 15kV with Shaped Electron Beam of Minimum Size 25nm BS600/TZ-0.]
Internal code: 6241 ; 2009
Technical parameters: Velikost svazku: 25-3150 nm. Otočení souřadnic tvarování: -30 stupňů. Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 0,8 – 1,6 – 4,8 A/cm2.
Economic parameters: Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožnilo realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
Institutional research plan: CEZ:AV0Z20650511
Keywords : Electron Beam Lithography with Shaped Beam
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0180783