Search results

0050997 - ÚPT 2007 cze K - Conference Paper (Czech conference)
Urbánek, Michal
Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie.
[Relief structures prepared by electron beam lithography.]
PDS 2006 - Sborník prací doktorandů oboru Elektronová optika. Brno: ÚPT AV ČR, 2006, s. 51-54. ISBN 80-239-7957-4.
[PDS 2006. Brno (CZ), 19.12.2006]
R&D Projects: GA ČR GA102/05/2325
Keywords : electron beam lithography * AFM
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0140999