Search results
- 1.0575662 - ÚPT 2024 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Mikel, Břetislav - Helán, R. - Urban, F.
Technologie výroby nelineárních fázových masek.
[The manufacturing process of apodized phase masks.]
Internal code: APL-2023-03 ; 2023
Technical parameters: Technologie pro výrobu nelineárních fázových masek pro vlnovou délku dopadajícího světla 248 nm pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání do materiálu fused silica. Přesnost zápisu periody mřížky je 0,1 nm, přesnost naladění hloubky mřížky je ±5 nm.
Economic parameters: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz.
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : apodized phase mask * e-beam lithography * reactive ion etching
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0345419 - 2.0480747 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Matějka, F. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír
Příprava TFE W(100) ZrO katod.
[TFE W(100) ZrO emitter preparation.]
Internal code: APL-2017-3 ; 2017
Technical parameters: Katody se připravují z W(100) monokrystalu. Standardní svítivost katody je 0,5 mA/sr. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší a vysokovakuovou aparaturu
Economic parameters: Ověřená technologie vznikla při řešení grantů. Ověřenou technologii využívá příjemce jednak při zajištění provozu aparatury elektronového litografu TESLA BS600 využívaného pro řešení řady projektů, a jednak v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA TA ČR TE01020233; GA MPO FR-TI1/576
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : elektronová litografie * katoda * emitér * termo auto emise * W(100)
OECD category: Electrical and electronic engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0276457 - 3.0478403 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
Chlumská, Jana - Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír
Ovrstvení Si desek tlustou vrstvou rezistu a kontrola vrstvy.
[Thick layer coating on Si wafers and the control of the layer.]
Internal code: APL-2017-02 ; 2017
Technical parameters: Vrstvy rezistu se nanáší na křemíkové podložky průměru 4-6 palců. Nominální tloušťka vrstev je 10 mikronů. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší.
Economic parameters: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantů, využívaná příjemcem při vývoji planárních mikrostruktur v rámci projektu FV10618 a v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e-beam lithography * PMMA rezist * thick layers * spin coating
OECD category: Materials engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0274516 - 4.0336589 - ÚPT 2010 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Horáček, Miroslav - Lencová, Bohumila - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Mikšík, P. - Vašina, J. - Horák, R.
Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm.
[E-Beam Writing Technology with Variable Beam Size of 66 - 2100 nm.]
Internal code: 162 410 ; 2009
Technical parameters: Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 1,8 – 3,6 – 14,4 A/cm2. Otočení souřadnic tvarování, vychylování a posuvu substrátu: -45 stupňů.
Economic parameters: Desetkrát vyšší proudová hustota umožňuje zvýšit základní expoziční dobu až desetkrát, což má přímý vliv na produktivitu. Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožňuje realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
R&D Projects: GA MPO FR-TI1/576
Keywords : electron beam lithography * shaped electron beam
Subject RIV: JP - Industrial Processing
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0180792 - 5.0094701 - ÚPT 2008 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
Horáček, Miroslav - Matějka, František - Kolařík, Vladimír
Modernizovaný elektronový litograf pro optické difraktivní struktury.
[Electron-beam writing system for diffractive optical elements.]
Internal code: 65701 ; 2006
Technical parameters: Urychlovací napětí elektronové trysky 15 kV.
Economic parameters: Elektronový litograf BS601M byl nainstalován ve firmě Optaglio v červenci roku 2006 kde nahradil obdobné zastaralé zařízení s horšími parametry.
Institutional research plan: CEZ:AV0Z20650511
Keywords : electron beam writing system * diffractive optical element
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0154449