Search results
- 1.0578367 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Nahálka, R. - Dřevíkovský, J. - Holec, P. - Krčmářová, Ž. - Vyšín, T. - Finke, M. - Jablonovský, B. - Voseček, T. - Bosák, M. - Dvořák, R. - Lexa, P. - Bourek, J. - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr
Strojově čitelný bezpečnostní prvek s nejvyšším stupněm zabezpečení.
[Machine readable security device with the highest security level.]
Internal code: APL-2023-04 ; 2023
Technical parameters: Adaptér s monochromatickým zdrojem světla pro zobrazení strojově čitelného prvku ve formě QR kódu. Box velikosti 8,5 cm x 3 cm x 2 cm. Zdroj monochromatického světla s parametry: nekolimovaný svazek, vlnová délka zdroje: 650 nm, výkon zdroje: 1 mW, úhel nasvícení: 22 stupňů od roviny polykarbonátové karty. Velikost průhledového okna pro čtení 2 x 2 cm. Vzdálenost mezi vzorkem a adaptérem 0 cm, adaptér přiložený přímo na vzorek polykarbonátové karty. Vzdálenost mezi adaptérem a fotoaparátem mobilního telefonu v rozmezí 0 až 2 cm.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz.
R&D Projects: GA MPO(CZ) EG20_321/0024673
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : Machine scanning * optical securing of documents * nanotechnology * QR Code
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0347973 - 2.0574101 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, V. - Stříteský, S. - Matějka, M. - Knápek, Alexandr - Těthal, T. - Krátký, S. - Meluzín, Petr - Voláková, V. - Lexa, P. - Mika, Filip - Chlumská, J. - Sadílek, Jakub - Horáček, Miroslav
Optický prvek pro technické aplikace na bázi počítačem generovaných hologramů.
[Optical element based on CGH for technical applications.]
Internal code: APL-2021-18 ; 2021
Technical parameters: Velikost optického prvku 25 mm x 25 mm, kvaziperiodická struktura s víceúrovňovým profilem, rozlišení zápisu v osách X/Y 200 nm, výška reliéfu 1050 nm.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz.
R&D Projects: GA MPO(CZ) EG19_262/0020294
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : diffractive optical element * computer generated hologram * direct write
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0344501 - 3.0564285 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Burda, Daniel - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pirunčík, J. - Aubrecht, I.
Komplexní zabezpečovací známka.
[A comprehensive security stamp.]
Internal code: APL–2022‐05 ; 2022
Technical parameters: Zabezpečovací známka v polymerním materiálu provedená zápisem pomocí elektronové litografie obsahující difrakční opticky variabilní obrazové prvky typu struktur s krátkou a velmi krátkou periodou, neperiodické struktury s variabilní hloubkou, blejzované struktury, mikročočky a další zajišťovací prvky v mikro a nano oblasti
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D.
R&D Projects: GA MV(CZ) VI20192022147
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : security * diffraction * optically variable image element * e‐beam writer * periodic * non‐periodic * blazed * microlens
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0336066 - 4.0543692 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Burda, Daniel - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pirunčík, J. - Aubrecht, I.
Vzorník parciálních difrakčních a refrakčních struktur.
[Sampler of partial diffractive and refractive elements.]
Internal code: APL-2021-02 ; 2021
Technical parameters: Master (Si), galvanická replika (Ni), výlisek v polymerním materiálu.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
R&D Projects: GA MV(CZ) VI20192022147
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : diffraction * refraction * optically variable image element * e-beam writer
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0320871 - 5.0518090 - ÚPT 2020 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Brunn, Ondřej - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Lahoda, Jaroslav - Matějka, Milan
Aparatura pro merení difrakcní úcinnosti a vyzarovací charakteristiky.
[Apparatus for diffraction efficiency and radiation pattern measurement.]
Internal code: APL-2019-20 ; 2019
Technical parameters: Otočná základna s rozsahem 360 st., optická lišta o délce 600 mm, vývojový kit Arduino Uno, software v prostředí LabVIEW + LINX.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
R&D Projects: GA MV(CZ) VI20192022147
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : diffraction efficiency * radiation pattern * light intensity measurement
OECD category: Electrical and electronic engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0303276 - 6.0496767 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Drozd, Michal - Knápek, Alexandr - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pavelka, Jan - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr
Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu.
[Apparatus for detecting of particles in coated resist layer.]
Internal code: APL-2018-05 ; 2018
Technical parameters: Jedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR TG03010046; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * quality control * image processing
OECD category: Automation and control systems
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0289410 - 7.0481742 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Knápek, Alexandr - Giričová, D. - Brunn, Ondřej
Propagační hologram “av21”Strategie AV ČR AV21.
[Promotional hologram “av21” Strategy CAS AV21.]
Internal code: APL-2017-04 ; 2017
Technical parameters: Zřízení má rozměr 46 mm x 30 mm (výsek štítku má rozměr 42 mm x 26 mm). Zařízení obashuje čárové mřížky, spirálovou mřížku, zonální prvky a strukturu CGH.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantů je využíván příjemcem. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * planar microstructure * diffractive device
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0277246 - 8.0474978 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana
Fylotaktické difrakční obrazové zařízení.
[Phyllotactic diffractive image device.]
Internal code: APL-2017-01 ; 2017
Technical parameters: Zařízení má průměr 32 mm. Středová oblast průměru 23 mm obsahuje difrakční křížovou mřížku, jejíž optické elementy jsou uspořádány podél spirály s délkou 20 km. Při konstrukci je dále použito běžných mřížek a zonálních prvků.
Economic parameters: Repliky funkčního vzorku realizovaného při řešení grantů jsou využívány příjemcem. Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D., kolariq@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * planar microstructure * diffractive device
OECD category: Construction engineering, Municipal and structural engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0271868 - 9.0464662 - ÚPT 2017 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr
Opticky variabilní obrazové zařízení cas 1.
[Optically variable image device.]
Internal code: APL-2016-01 ; 2016
Technical parameters: Zařízení má velikost 33 mm x 33 mm. Středová oblast průměru 20 mm obsahuje difrakční vrypy délky 571 metrů. Podkladová oblast s UV mřížkou obsahuje vrypy délky 2,5 km. Při konstrukci je dále použito 9 zonálních prvků, 5 holografických prvků a jeden zajišťovací mikro grafický prvek.
Economic parameters: Repliky funkčního vzorku realizovaného při řešení grantů jsou využívány příjemcem.Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D., kolariq@isibrno.cz
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LO1212
Keywords : e-beam lithography * planar microstructure * diffractive device
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0265190 - 10.0336579 - ÚPT 2010 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Matějka, František - Matějka, Milan - Urbánek, Michal - Král, Stanislav
Elektronový litograf s urychlovacím napětím 15kV a tvarovaným svazkem do 25nm - BS600/TZ-0.
[E-Beam Writer at 15kV with Shaped Electron Beam of Minimum Size 25nm BS600/TZ-0.]
Internal code: 6241 ; 2009
Technical parameters: Velikost svazku: 25-3150 nm. Otočení souřadnic tvarování: -30 stupňů. Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 0,8 – 1,6 – 4,8 A/cm2.
Economic parameters: Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožnilo realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
Institutional research plan: CEZ:AV0Z20650511
Keywords : Electron Beam Lithography with Shaped Beam
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0180783