Search results

  1. 1.
    0539967 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
    ICP plazma zdroj.
    [ICP plasma source.]
    Internal code: FVMF2/FZU/2020 ; 2020
    Technical parameters: Vnější průměr vstupní části ICP zdroje: 6 mm. Vnitřní průměr vstupní části ICP zdroje: 4 mm. Vnější průměr pracovní části ICP zdroje: 25 mm. Vnitřní průměr pracovní části ICP zdroje: 23 mm.
    Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TM01000039
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : inductively coupled plasma * Minimal Fab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0317650
     
  2. 2.
    0537056 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kapran, Anna - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
    Optimalizovaný surfatronový plazmový zdroj pro PE-ALD systém.
    [Optimized surfatron plasma source for PE-ALD deposition system.]
    Internal code: FVMF1/FZU/2020 ; 2020
    Technical parameters: Vnější průměr křemenné trubičky: 6 mm, vnitřní průměr křemenné trubičky: 4 mm, výstupní tryska: kónická tryska, typ surfatron: mosazný rezonátor typu SAIREM s integrovanou přizpůsobovací jednotkou.
    Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TM01000039
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : microwave surfatron * MinimalFab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314808
     
  3. 3.
    0537050 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Hnilica, J. - Klein, P. - Vašina, P.
    Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů.
    [Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages.]
    Internal code: FVNCK1/FZU/2020 ; 2020
    Technical parameters: Délka pulzu: 30 μs, vzdálenost mezi pulzy v balíčku: 20 μs, střída: 5 %, počet pulzů:4, pracovní tlak v reaktoru: 1 Pa
    Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    R&D Projects: GA TA ČR TN01000038
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : sputtering * thin films * plasma * deposition * deposition rate * pulse package * ionization fraction
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314801
     
  4. 4.
    0518972 - FZÚ 2020 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Tvarog, Drahoslav - Jetmar, Tomáš
    Funkční 3D vzorek s ochranným antiabrazivním a antikorozním povlakem vhodným pro vysoké mechanické a tepelné zatížení.
    [Functional sample of 3D part protected with antiabrasive and anticorrosion coating suitable for high mechanical and thermal loads.]
    Internal code: FVG5/FZU/2019 ; 2019
    Technical parameters: Délka povlakované trubice 120 mm, vnitřní průměr min. 7,6 mm, maximální tlušťka povlaku 30 mikrometrů. Max. počet vrstev 12, adhezní vrstva Cr, tvrdý povlak CrN.
    Economic parameters: Nasazení v průmyslu a nahrazení galvanického pokovování umožní úsporu nákladů na likvidaci ekologicky závadných elektrolytů. Dále plazmové povlaky zajistí vyšší reprodukovatelnost povlaků a větší konkurenceschopnost daného výrobku.
    R&D Projects: GA TA ČR TN01000038
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : hollow cathode * coatings * thin films * chromium
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0303972
     
  5. 5.
    0499948 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
    Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
    [Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
    Internal code: FVG1/FZU/2018 ; 2018
    Technical parameters: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
    Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    R&D Projects: GA MPO FV20580
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0292132
     
  6. 6.
    0486974 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tvarog, Drahoslav - Pultar, M. - Šmíd, Jiří - Straňák, Vítězslav - Olejníček, Jiří - Poruba, Aleš - Vaněk, J. - Pečiva, L. - Lukašík, P. - Dolák, J.
    Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm.
    [Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm.]
    Internal code: FV1/FZU/2017 ; 2017
    Technical parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    Economic parameters: Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
    R&D Projects: GA TA ČR TF03000025
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0281681
     
  7. 7.
    0485925 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kšírová, Petra - Klinger, Miloslav
    Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent.
    [Plasmatic system for coatings of hollow substrates.]
    Internal code: FVG1/FZU/2017 ; 2017
    Technical parameters: Generace plazmatu: dutá katoda, druh výboje: RF/DC/DC-pulzní, výkon v plazmatu: max 150 W, průtok argonu: 50-250 sccm, pracovní tlak: 1-20 Pa. Délka povlakované trubky: max 200 mm.
    Economic parameters: Plazmová depoziční aparatura byla vyvinuta v rámci projektu GAMA TAČR a bude nabídnuta průmyslovým partnerům jako technologie pro povlakování strojních komponent.
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TG02010056
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0280842
     
  8. 8.
    0465021 - FZÚ 2017 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
    Vícetryskový PVD depoziční systém.
    [Multijet PVD deposition system.]
    Internal code: UHV-4DK/FZU2016 ; 2016
    Technical parameters: Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod.
    Economic parameters: Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost.
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TF01000084
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : hollow cathode discharge * multi plasma-jet * thin films * PVD * sputtering
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0263763
     
  9. 9.
    0436748 - FZÚ 2015 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Adámek, Petr
    Multifunkční držák substrátu pro plazmové depozice tenkých optických vrstev.
    [Multifunctional substrate holder for plasma depositions of optical thin films.]
    Internal code: MFSH2014 ; 2014
    Technical parameters: Rotační rychlost: 0-200 RPM; vakuová těsnost: 1x10-10 mbar l s-1; maximální dosažená teplota: 400 °C; maximální příkon vytápění: 180 W; maximální amplituda RF předpětí při frekvenci 13.56 MHz: 1000 V
    Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    R&D Projects: GA TA ČR TA01010517
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : sputtering * thin films * plasma * deposition * magnetron * reactive sputtering
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0240432
     
  10. 10.
    0434023 - FZÚ 2015 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Adámek, Petr - Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Kment, Štěpán
    Měřící systém V-A charakteristik solárních článků.
    [Solar Cell I-V Curve Measurement System.]
    Internal code: Vam-XIV/A/DFU2014 ; 2014
    Technical parameters: Vyvinutý adaptér Vam-XIV/A/DFU2014 ve spojení s řídící jednotkou DSPC umožňuje měření voltampérové charakteristiky fotovoltaických (PV) článků a polovodičových přechodů s vysokým rozlišením proudu.
    Economic parameters: Vyvinutý měřící adaptér významně automatizuje a zkracuje dobu měření jednotlivých testovaných vzorků. Náklady na výrobu celého adaptéru nepřesáhly částku 10 000 Kč.
    R&D Projects: GA MŠk LH12045
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : solar cell diagnostics * plasma * measuring system * thin film deposition processes
    Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0238166