Search results

  1. 1.
    0494044 - FZU-D 2019 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
    Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
    Vysokorychlostní depozice homogenních oxidových vrstev prostřednictvím vícetryskového systému žhavených dutých katod.
    [High rate deposition of homogeneous oxide films by multi-nozzle system of hot hollow cathodes.]
    Internal code: TF01000084-2018V003 ; 2018
    Technical parameters: Ohledně výsledku byla dne 28.2.2018 uzavřena licenční smlouva mezi Fyzikálním ústavem a společností IQ Structures, s.r.o. (IČ: 24279501)
    Economic parameters: Ve srovnání s reaktivním DC magnetronovým naprašováním umožňuje tato technologie několikanásobné zvýšení depoziční rychlosti oxidových vrstev. Tento nárůst může v závislosti na naprašovaném materiálu dosáhnout až desetinásobku při současném zachování energetické náročnosti depozičního procesu. Technologie byla testována v průmyslové aparatuře společnosti Emerson & Renwick na vrstvách oxidu titaničitého (TiO2) a oproti DC-MS bylo dosaženo trojnásobné depoziční rychlosti.
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TF01000084
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : hollow cathode * plazma nozzle * deposition * thin films
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0287285