Výzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace.
Project Name
TF01000084
Grant Agency
GA TA ČR
Research years
2015 - 2017
Grant Recipient
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Participants
Olejníček
Catal.org.
CAV
References
(4) - Článek v odborném časopise
(1) - Prototyp, funkční vzorek
(1) - Patentový dokument
(1) - Užitný vzor, průmyslový vzor
(1) - Poloprovoz, technologie, odrůda, plemeno
File
Projekty
Create a new version of the record only if you will be modifying stored files, as it will have a new DOI assigned. If you are only changing the metadata description and not the files, edit the current version of the record.
This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about
how we use cookies.