Search results
- 1.0336007 - FZÚ 2010 RIV US eng C - Conference Paper (international conference)
Cihelka, Jaroslav - Juha, Libor - Chalupský, Jaromír - Rosmej, F.B. - Renner, Oldřich - Saksl, K. - Hájková, Věra - Vyšín, Luděk - Galtier, E. - Schott, R. - Khorsand, A.R. - Riley, D. - Dzelzainis, T. - Nelson, A. - Lee, R. W. - Heimann, P. - Nagler, B. - Vinko, S. - Wark, J. - Whitcher, T. - Toleikis, S. - Tschentscher, T. - Fäustlin, R. - Wabnitz, H. - Bajt, S. - Chapman, H. - Krzywinski, J. - Sobierajski, R. - Klinger, D. - Jurek, M. - Pelka, J. - Hau-Riege, S. - London, R.A. - Kuba, J. - Stojanovic, N. - Sokolowski-Tinten, K. - Gleeson, A.J. - Störmer, M. - Andreasson, J. - Hajdu, J. - Timneanu, N.
Optical emission spectroscopy of various materials irradiated by soft x-ray free-electron laser.
[Optická emisní spektroskopie různých materiálů ozářených rentgenovým laserem s volnými elektrony.]
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II. Bellingham: SPIE, 2009 - (Juha, L.; Bajt, S.; Sobierajski, R.), 73610P/1-73610P/10. Proceedings of SPIE, 7361. ISBN 9780819476357. ISSN 0277-786x.
[Damage to VUV, EUV, and X-Ray Optics II. Prague (CZ), 21.04.2009-23.04.2009]
R&D Projects: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100523
Keywords : optical emission spectroscopy * free-electron laser * atomic lines * plasma plume * warm dense matter
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
http://dx.doi.org/10.1117/12.822766
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0180339 - 2.0335956 - FZÚ 2010 RIV US eng C - Conference Paper (international conference)
Sobierajski, R. - Klinger, D. - Jurek, M. - Pelka, J. B. - Juha, Libor - Chalupský, Jaromír - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Vyšín, Luděk - Jastrow, U. - Stojanovic, N. - Toleikis, S. - Wabnitz, H. - Krzywinski, J. - Hau-Riege, S. - London, R.
Interaction of intense ultrashort XUV pulses with silicon.
[Interakce intenzivních ultra-krátkých XUV pulzů s křemíkem.]
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II. Bellingham: SPIE, 2009 - (Juha, L.; Bajt, S.; Sobierajski, R.), 736107/1-736107/11. Proceedings of SPIE, 7361. ISBN 9780819476357. ISSN 0277-786x.
[Damage to VUV, EUV, and X-Ray Optics II. Prague (CZ), 21.04.2009-23.04.2009]
R&D Projects: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100523
Keywords : radiation damage * amorphization * ablation * monocrystalline silicon * soft x-ray free-electron laser
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
http://dx.doi.org/10.1117/12.822152
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0180297 - 3.0089780 - FZÚ 2008 RIV NL eng C - Conference Paper (international conference)
Chalupský, Jaromír - Juha, Libor - Kuba, J. - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Bergh, M. - Bionta, R.M. - Caleman, C. - Chapman, H. - Hajdu, J. - Hau-Riege, S. - Jurek, M. - Koptyaev, Sergey - Krása, Josef - Krenz-Tronnier, A. - Krzywinski, J. - London, R. - Meyer-ter-Vehn, J. - Nietubyc, R. - Pelka, J. B. - Sobierajski, R. - Sokolowski-Tinten, K. - Stojanovic, N. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Tschentscher, T. - Velyhan, Andriy - Wabnitz, H. - Zastrau, U.
Ablation of organic molecular solids by focused soft X-ray free-electron laser radiation.
[Ablace organické molekulární pevné látky fokusovaným zářením rentgenového laseru na volných elektronech.]
X-Ray lasers 2006. Dordrecht: Springer-Verlag, 2007 - (Nickles, P.; Janulewicz, K.), s. 503-510. Springer proceedings in physics, 115. ISBN 978-1-4020-6017-5. ISSN 0930-8989.
[International Conference on X-ray Lasers/10./ – ICXRL 2006. Berlin (DE), 21.08.2006-25.08.2006]
R&D Projects: GA MŠMT 1P04LA235; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100523
Keywords : free-electron laser * soft X-rays * ablation * organic polymer
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0150874