Search results
- 1.0536616 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Research Report
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Pokorná, Zuzana
SMV-2020-23: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2020-23: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Tescan Brno s.r.o., 2020. 8 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : relief structure: e-beam lithography * silicon etching * microlithography
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314396 - 2.0536030 - ÚPT 2021 CZ cze V - Research Report
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
SMV-2020-24: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2020-24: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Delong Instruments, a.s., 2020. 7 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : relief structure: e-beam lithography * relief structure: silicon etching * silicon etching * microlithography
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0313879