Search results
- 1.0457443 - ÚFE 2016 RIV US eng J - Journal Article
Kuzmiak, Vladimír - Maradudin, A. A.
Asymmetric transmission of surface plasmon polaritons on planar gratings.
Physical Review. A. Roč. 92, č. 5 (2015), s. 538131-538139. ISSN 1050-2947
R&D Projects: GA MŠMT LH12009
Institutional support: RVO:67985882
Keywords : Electromagnetic wave polarization * Photons * Diffractive structures
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Impact factor: 2.808, year: 2014
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0257844File Download Size Commentary Version Access UFE 457443.pdf 8 1.3 MB Other require - 2.0398514 - FZÚ 2014 RIV GB eng J - Journal Article
Peláez, R.J. - Afonso, C.N. - Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Lančok, Ján - Piksová, K.
2D plasmonic and diffractive structures with sharp features by UV laser patterning.
Nanotechnology. Roč. 24, č. 9 (2013), "095301-1"-"095301-7". ISSN 0957-4484. E-ISSN 1361-6528
R&D Projects: GA AV ČR IAA100100718
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : silver thin film * silver nanoparticles * plasmonics * diffractive structures * laser processing
Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism
Impact factor: 3.672, year: 2013
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0226001 - 3.0047118 - ÚPT 2006 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Matějka, František
Technologie reliéfních difraktivních struktur připravovaných elektronovou litografií.
[Technology of relief diffractive structures mode by e-beam lithography.]
Internal code: DIFF ; 2003
Technical parameters: Technologie přípravy difraktivních struktur ve vrstvě elektronového rezistu pomocí elektronové litografie umožňuje průmyslovou přípravu.
Economic parameters: Průmyslová výroba bezpečnostních hologramů v České republice.
R&D Projects: GA AV ČR(CZ) IBS2065014
Keywords : E-beam lithography * diffractive structures * security holograms * CGH
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0138118 - 4.0022556 - ÚPT 2006 CZ cze K - Conference Paper (Czech conference)
Daněk, Lukáš
Návrh difraktivních struktur pro elektronový litograf BS600.
[Design of diffractive elements manufactured on electron-beam lithograph BS600.]
PDS 2004 - Sborník prací doktorandů oboru Elektronové optiky. Brno: ÚPT AV ČR, 2005, s. 11-12. ISBN 80-239-4561-0.
[PDS 2004. Brno (CZ), 15.03.2005]
Institutional research plan: CEZ:AV0Z20650511
Keywords : Electron-beam lithography * diffractive structures
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0111284