0429848 - ÚPT 2015 RIV CZ cze J - Journal Article
Urbánek, Michal - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav
Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano.
[Plasmochemical Etching of Silicon in Diener Nano Device.]
Chemické listy. Roč. 108, č. 6 (2014), s. 592-595. ISSN 0009-2770. E-ISSN 1213-7103
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LO1212
Keywords : plasmochemical etching * silicon * etching rate * selectivity
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Impact factor: 0.272, year: 2014
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0234865
Urbánek, Michal - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav
Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano.
[Plasmochemical Etching of Silicon in Diener Nano Device.]
Chemické listy. Roč. 108, č. 6 (2014), s. 592-595. ISSN 0009-2770. E-ISSN 1213-7103
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LO1212
Keywords : plasmochemical etching * silicon * etching rate * selectivity
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Impact factor: 0.272, year: 2014
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0234865