0308203 - ÚPT 2008 RIV GB eng J - Journal Article
Hovorka, Miloš - Frank, Luděk - Valdaitsev, D. - Nepijko, S. - Elmers, H. - Schönhense, G.
High-pass energy-filtered photoemission electron microscopy imaging of dopants in silicon.
[Studium vlastností dotovaného křemíku pomocí fotoemisní elektronové mikroskopie s využitím energiového filtru.]
Journal of Microscopy. Roč. 230, č. 1 (2008), s. 42-47. ISSN 0022-2720. E-ISSN 1365-2818
R&D Projects: GA ČR GA102/05/2327
Institutional research plan: CEZ:AV0Z20650511
Keywords : dopants * energy-filtered imaging * PEEM * silicon
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Impact factor: 1.409, year: 2008 ; AIS: 0.77, rok: 2008
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0160757