Number of the records: 1

Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu

SYSNO	0481686
Title	Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu
Title	A method of controlling the rate of deposition of thin layers in a vacuum multi-nozzle plasma system and a device for implementing this method
Author(s)	Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Šmíd, Jiří (FZU-D) Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID}
Issue data	2017
Name of the owner	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Date of the patent acceptance	13.09.2017
Patent no. or utility model no. or industrial design no.	306980
Patent category	E - Úřad průmyslového vlastnictví (patentový úřad ČR)
Code of the issuer name	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Document Type	Patentový dokument
Grant	TF01000084 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR), CZ - Czech Republic
Institutional support	FZU-D - RVO:68378271
Language	cze
Keywords	hollow cathode * plasma nozzle * deposition * thin films
URL	https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241583&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
Permanent Link	http://hdl.handle.net/11104/0277207

Number of the records: 1