Number of the records: 1  

Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu

  1. 1.
    SYSNO0476548
    TitleZpůsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu
    TitleA method of measuring deposition low pressure plasma using wave resonance of electron cyclotron waves and a device for performing this method
    Author(s) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Adámek, Jan (FZU-D)
    Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
    Issue data2017
    Name of the ownerFyzikální ústav AV ČR, v. v. i
    Date of the patent acceptance31.05.2017
    Patent no. or utility model no. or industrial design no.306799
    Patent categoryE - Úřad průmyslového vlastnictví (patentový úřad ČR)
    Code of the issuer nameCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Document TypePatentový dokument
    Grant TA03010743 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    Institutional supportFZU-D - RVO:68378271
    Languagecze
    Keywords plasma deposition * electrone-cyclotrone wave * acoustic emission
    URLhttps://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10195504&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
    Permanent Linkhttp://hdl.handle.net/11104/0273025
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.