Number of the records: 1

Vícetryskový PVD depoziční systém

SYSNO	0465021
Title	Vícetryskový PVD depoziční systém
Title	Multijet PVD deposition system
Author(s)	Šmíd, Jiří (FZU-D) Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Issue data	2016
Subspecies	Functional Specimen
Int.Code	UHV-4DK/FZU2016
Technical parameters	Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod.
Economic parameters	Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost.
Owner Name	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Na Slovance 2, Praha 8
Document Type	Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor
Grant	TF01000084 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR), CZ - Czech Republic
Institutional support	FZU-D - RVO:68378271
Language	cze
Country	CZ
Keywords	hollow cathode discharge * multi plasma-jet * thin films * PVD * sputtering
Permanent Link	http://hdl.handle.net/11104/0263763

Number of the records: 1