Number of the records: 1  

SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav

    1.
    SYSNO0545141
    TitleSMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav
    TitleSMV-2021-02: Development and implementation of amplitude masks for adjustment of optomechanical systems
    Author(s) Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Kopal, Jaroslav (UPT-D)
    Issue dataBrno: Meopta - optika, s.r.o., 2021
    Document TypeVýzkumná zpráva
    GrantNon-public resources
    Languagecze
    CountryCZ
    Keywords e-beam lithography * lithography mask
    Permanent Linkhttp://hdl.handle.net/11104/0321889
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.

Accept allSettingsReject all