Number of the records: 1  

Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm

  1. 1.
    SYSNO0486974
    TitleSurfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm
    TitleSurfatron plasma source for substrates up to 100 mm
    Author(s) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Tvarog, Drahoslav (FZU-D)
    Pultar, M. (CZ)
    Šmíd, Jiří (FZU-D)
    Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Poruba, Aleš (FZU-D) RID
    Vaněk, J. (CZ)
    Pečiva, L. (CZ)
    Lukašík, P. (CZ)
    Dolák, J. (CZ)
    Issue data2017
    SubspeciesFunkční vzorek
    Int.CodeFV1/FZU/2017
    Technical parametersLaboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    Economic parametersVyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
    Owner NameFyzikální ústav AV ČR, v.v.i.
    Document TypePrototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor
    Grant TF03000025 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    Institutional supportFZU-D - RVO:68378271
    Languagecze
    CountryCZ
    Keywords Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
    Permanent Linkhttp://hdl.handle.net/11104/0281681