Number of the records: 1

Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému

SYSNO	0466215
Title	Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému
Title	Device to control deposition of thin layers in vacuum multijet plasma system
Author(s)	Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Šmíd, Jiří (FZU-D) Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID}
Issue data	2016
Name of the owner	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Date of the utility model acceptance	15.11.2016
Utility model number	30018
Utility model type	U - Užitný vzor
Utility model category	E - Úřad průmyslového vlastnictví (patentový úřad ČR)
Code of the issuer name	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Document Type	Užitný a průmyslový vzor
Grant	TF01000084 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR), CZ - Czech Republic
Institutional support	FZU-D - RVO:68378271
Language	cze
Keywords	plasma jet * thin films * hollow cathode * sputtering
URL	https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0030/uv030018.pdf
Permanent Link	http://hdl.handle.net/11104/0264578

Number of the records: 1